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产品描述
用途：
铼靶材用于磁控溅射镀膜，磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相（PVD）镀膜方式，相比于蒸发镀膜方式，其在很多方面有相当明显的优势，作为一项已经发展得较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域，比如在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛应用。
规格：
规格：纯度Re≥99.99%~99.999%，形状、尺寸、密度接受各种定制产品。
关键词:
铼
铼磁控溅射镀膜靶
铼溅射靶
铼靶
溅射铼靶
铼合金靶
半导体靶材
高纯铼靶
溅射镀膜靶材
PVD靶材
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纯度: 3N5<br>
尺寸 : 1-10英寸，非常规尺寸可定做<br>
用途:铱的高温抗氧化性和热电性能使铱/铱铑热电偶成为惟一能在大气中测量达2100℃高温的贵金属测温材料<br>
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<a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人：张经理 18608419172 微信同号</a>
规格：99.95%，圆形或方形
现代先进的钼、铑双靶X线机照相具有高清晰度、高对比度的特点,能充分显示微小钙化征象,是目前乳腺癌普查首选的影像检查方法。<br>
规格：直径Φ50~170mm 厚度3~15mm
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Pd≥99.95% <br>
应用：钯靶主要用于真空镀膜领域
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化学纯度：99.99%<br>
尺寸：直径20～300mm，厚度1～60mm按要求定制<br>
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化学纯度：99.99%<br>
尺寸：直径20～300mm，厚度1～60mm按要求定制<br>
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