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铼靶 铼溅射靶材
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铼靶 铼溅射靶材
规格:纯度Re≥99.99%~99.999%,形状、尺寸、密度接受各种定制产品。
铼靶材用于磁控溅射镀膜,磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相(PVD)镀膜方式,相比于蒸发镀膜方式,其在很多方面有相当明显的优势,作为一项已经发展得较为成熟的技术,磁控溅射已经被应用于许多领域,比如在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛应用。

联系人:张经理 18608419172 微信同号
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产品描述

用途:

铼靶材用于磁控溅射镀膜,磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相(PVD)镀膜方式,相比于蒸发镀膜方式,其在很多方面有相当明显的优势,作为一项已经发展得较为成熟的技术,磁控溅射已经被应用于许多领域,比如在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛应用。

 

规格:

规格:纯度Re≥99.99%~99.999%,形状、尺寸、密度接受各种定制产品。

 

关键词:
铼磁控溅射镀膜靶
铼溅射靶
铼靶
溅射铼靶
铼合金靶
半导体靶材
高纯铼靶
溅射镀膜靶材
PVD靶材
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