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真空镀膜材料及技术系列三《蒸发镀膜技术概述与优质蒸镀材料的选择》

蒸发镀膜是PVD真空镀膜方式的一种,其特点是在真空条件下,材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜,再经高温热处理后,在玻璃表面形成附着力很强的膜层。溅射镀膜和蒸发镀膜是目前最主流的两种 PVD 镀膜方式。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制,可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜,所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点,已成为制备薄膜材料的主要技术之一。
2023-04-21

真空镀膜材料及技术系列二《高品质溅射靶材有哪些特点?》

真空镀膜技术主要涉及用不同的真空镀膜设备和工艺方式,将镀膜材料生成在特定的基材表面,以制备各种具有特定功能的薄膜材料。真空镀膜技术应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。薄膜材料生长于基板材料(如屏显玻璃、光学玻璃等)之上,一般由金属、非金属、合金或化合物等材料(统称镀膜材料)经过镀膜后形成,具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能,并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。由于薄膜材料就是镀膜材料转移至基板之后形成的,所以薄膜品质的好坏高低与镀膜材料的品质优劣是直接相关的关系。目前,薄膜材料制备技术主要包括:物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。物理气相沉积(PVD)技术主要包含真空溅射镀膜、真空蒸发镀膜、真空离子镀膜三种方式。
2023-03-02

真空镀膜材料及技术系列一《真空镀膜材料及技术概述》

真空镀膜技术主要涉及用不同的真空镀膜设备和工艺方式,将镀膜材料生成在特定的基材表面,以制备各种具有特定功能的薄膜材料。真空镀膜技术应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。薄膜材料生长于基板材料(如屏显玻璃、光学玻璃等)之上,一般由金属、非金属、合金或化合物等材料(统称镀膜材料)经过镀膜后形成,具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能,并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。由于薄膜材料就是镀膜材料转移至基板之后形成的,所以薄膜品质的好坏高低与镀膜材料的品质优劣是直接相关的关系。目前,薄膜材料制备技术主要包括:物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。物理气相沉积(PVD)技术主要包含真空溅射镀膜、真空蒸发镀膜、真空离子镀膜三种方式。
2023-02-16

球形粉末的应用与制备方法

球形粉末因其具有良好的流动性和高振实密度在众多领域得到越来越广泛的应用。在热喷涂领域,球形粉末因其良好的流动性,使所制得的涂层更均匀、致密,因而涂层具有更好的耐磨性;在粉末冶金领域,采用球形粉末制备的成形件密度高,烧结过程中成形件收缩均匀,因而获得的制品精度高、性能好,在注射成形、凝胶注模成形及增材制造(如3D打印技术)等先进粉末冶金成形技术应用中具有明显的优势。
2022-10-27

业界动态

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2022

12 28

高纯钨是制造集成电路的基本材料,材料形状可以是箔片、片材、靶材、灯丝、绝缘线、直棒、圆管、粉末、单晶等。广泛用作半导体大型的栅电路电极材料、布线材料和屏蔽金属材料级集成电路。纯度达到99.999%和99.9999%,分别记录为5N和6N纯钨。各种杂质元素的含量应在(0.1~1000)×10-12之间,某些杂质元素的含量有特殊要求,如放射性、碱金属、重金属、气体元素等。

2022

12 19

钨有高熔点、耐腐蚀、抗辐射等一系列优点,广泛应用于电子、医疗、钢铁冶金等行业。精矿处理得到的是Na2WO4溶液,溶液中含有一定的杂质,必须对其进行提纯才能有高纯制品。关于制造,在国外发展很快,特别是在日本,20世纪40年代就开始了高纯度的研究和生产。

2022

12 08

高纯钨的熔点是所有金属元素中较高的,密度高,接近金,钨的硬度也高,像碳化钨的硬度一样接近金刚石。此外高纯钨还因其具有良好的导电性和导热性、小膨胀系数等特性,广泛应用于合金、电子、化工等领域,其中硬质合金是钨较大的消费领域,那么下面一起了解下高纯钨性质用途及其制备吧!

2022

11 28

在2008年经济危机的影响下,钼的价格从4000元/吨左右的高位快速回落,2008年至2015年呈下降趋势。2016年以来,在供需紧平衡,钼价格逐步反弹。2020 年以后,新冠疫情肆虐海外冶炼产能停滞,大量钼精矿涌入国内,钼价格再次出现回落;随着全球疫情得到控制,经济逐步向好,钼价格再次飙升 。
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