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高品质光电新材/高纯靶材
包含高性能溅射靶材、蒸镀材料、热沉材料、离子注入件、MOCVD加热部件
编号:
ITO(Indium Tin Oxide)靶材是指由锡、铟、氧三种元素组成的化合物靶材,具有优异的导电、透明性能和化学稳定性。
编号:
浏览量:
1000
关键字:
氧化铟靶
ITO靶
编号:
5N高纯钨粉 欧泰专产半导体 电子级 离子注入用高纯钨粉<br> 规格:3-5um<br> 纯度:4N-6N<br> 用途:用于制备高纯钨靶和高纯钨合金靶材,制备硬质合金工具,粉末冶金,金刚石工具,高比重合金,触头,难熔合金。钨合金,如钨钼合金、钨铼合金、钨铜合金和高密度钨合金等<br> 产品特性:高比重,耐高温,硬度高 <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
编号:
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0
关键字:
高纯钨
高纯钨粉
钨粉
钨靶
高纯钨粉
高纯难熔金属
靶材钨粉
高纯金属添加剂
高纯钨粉厂家
高纯难熔金属
高纯金属添加剂
编号:
1、纯度:99.95%;99.99%;99.999%<br /> 2、密度:  ≥19.1g/cm3;<br> 3、平整度:≤2%; <br /> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
编号:
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0
关键字:
钨靶 高纯钨靶
钨溅射靶材
金属靶材厂家
靶材供应商
溅射钨靶
钨合金靶
半导体靶材
高纯钨靶
溅射镀膜靶材
PVD靶材
编号:
执行标准:ASTM B 365  GB/T26012-2010<br> 牌号:Ta1,Ta2 <br> 纯度:99.95%    99.99% <br>
编号:
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1000
关键字:
高纯钽棒
高纯钽条
高纯钽
编号:
钌靶主要用于真空镀膜领域<br> 纯度:99.95%<br> 用途:真空镀膜,实验或研究级别用钌靶材,电子,光电,军用,装饰镀,功能薄膜等 <br>
编号:
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1000
关键字:
钌靶
钌溅靶材
贵金属钌靶
钌靶生产厂家
钌靶供应商
钌合金靶
溅射钌靶
半导体靶材
高纯钌靶
溅射镀膜靶材
PVD靶材
编号:
根据使用目的不同,对高纯钨靶和钨钛靶杂质含量有不同要求,一般要求化学纯度在99.99%~99.999%之间,我们也可根据用户要求特别定制适合应用的其它规格。 <br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
编号:
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1000
关键字:
钨钛靶
钨钛合金靶
钨钛溅射靶
合金靶厂家
溅射靶材厂家
溅射钨钛靶
半导体靶材
高纯钨钛靶
溅射镀膜靶材
PVD靶材
编号:
铱锭、铱颗粒 Ir≥99.95%<br> 尺寸:直径D(1-20)*高度H(10-15)mm;需方如对尺寸和单重如有特殊要求,双方协议订货<br> 用途:主要用于蒸发镀膜材料<br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>  
编号:
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1000
关键字:
铱颗粒
铱粒
铱圆柱
铱蒸镀材料
铱蒸发镀膜颗粒
铱蒸镀颗粒
铱蒸镀材料
铱蒸发镀膜材料
编号:
纯度:99.9%,致密度达到理论密度95%以上<br /> 合金配比依据客户需求 <br /> 规格:平面靶、矩形靶、阶梯靶,可根据要求定做、<br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
编号:
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1000
关键字:
钨镍铬靶
溅射钨镍铬靶
钨镍铬合金靶
半导体靶材
高纯钨镍铬靶
溅射镀膜靶材
PVD靶材
镍铬靶
镍铬靶
编号:
化学纯度:99.99%<br> 尺寸:直径1~30mm,厚度1~30mm按要求定制<br>
编号:
浏览量:
1000
关键字:
银颗粒
银蒸镀材料
银蒸发镀膜材料
银锭
编号:
铑锭|粒 Rh≥99.95%<br> 规格:直径 1 ~ 30mm, 厚度 1 ~ 30mm 或定制<br> 性质:性质:银白色金属,质极硬,耐磨,也有相当的延展性<br>
编号:
浏览量:
1000
关键字:
铑锭
铑颗粒
铑蒸发镀膜颗粒
贵金属铑
高纯铑颗粒
铑蒸发镀膜材料
蒸镀材料
高铑铼颗粒
蒸发镀膜
蒸发料
编号:
钽靶材通常与铜背靶进行焊接,然后进行半导体或光学溅射,将钽原子以氧化物形成淀积在基板材料上,实现溅射镀膜;钽靶材主要应用于半导体镀膜、光学镀膜等行业。 <br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
编号:
浏览量:
1000
关键字:
钽靶
钽溅射靶材
金属钽靶
钽靶材料制造商
编号:
纯度规格:99.95%;99.98%<br> 密度:≥10.10g/cm3<br> 组织:平均晶粒度小于150微米,典型靶材及表面组织<br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
编号:
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1000
关键字:
钼靶
钼溅射靶
金属钼靶
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