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光电材料事业部

  • 分类:稀材事业部
  • 作者:
  • 来源:
  • 发布时间:2020-12-14 09:59
  • 访问量:0

【概要描述】近年来,随着信息技术的飞速发展,对半导体材料的要求越来越高,需求量也越来越多,欧泰依托在难熔及稀贵金属领域的丰富经验,成立了光电材料事业部,主要针对光电行业提供真空镀膜耗材解决方案与半导体设备MOCVD热场解决方案。
真空镀膜有三种形式:蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀,是目前以物理气相沉积法(PVD)方式实现膜生长的主流技术。欧泰稀材生产供应各类形态的优质高纯金属蒸发料、溅射靶材,确保用户得到最佳镀膜品质。
金属有机物化学气相沉积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition,简称 MOCVD)是制备混合半导体器件、金属及金属氧化物、金属氮化物薄膜材料的一种芯片外延技术。加热系统是 MOCVD 设备的重要组成部分,它能否快速、均匀的加热衬底,直接影响着薄膜沉积的质量、厚度一致性,以及芯片的性能。欧泰稀材旗下的铼因合金拥有10年MOCVD用铼加热器专业制作技术经验及完善的品控管理体系,是替代MOCVD用铼加热器进口大牌或原厂配件,能够进行OEM全工序代工代制,最具技术开发实力和品质保障能力的国内头号厂家。

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光电材料事业部

【概要描述】近年来,随着信息技术的飞速发展,对半导体材料的要求越来越高,需求量也越来越多,欧泰依托在难熔及稀贵金属领域的丰富经验,成立了光电材料事业部,主要针对光电行业提供真空镀膜耗材解决方案与半导体设备MOCVD热场解决方案。
真空镀膜有三种形式:蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀,是目前以物理气相沉积法(PVD)方式实现膜生长的主流技术。欧泰稀材生产供应各类形态的优质高纯金属蒸发料、溅射靶材,确保用户得到最佳镀膜品质。
金属有机物化学气相沉积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition,简称 MOCVD)是制备混合半导体器件、金属及金属氧化物、金属氮化物薄膜材料的一种芯片外延技术。加热系统是 MOCVD 设备的重要组成部分,它能否快速、均匀的加热衬底,直接影响着薄膜沉积的质量、厚度一致性,以及芯片的性能。欧泰稀材旗下的铼因合金拥有10年MOCVD用铼加热器专业制作技术经验及完善的品控管理体系,是替代MOCVD用铼加热器进口大牌或原厂配件,能够进行OEM全工序代工代制,最具技术开发实力和品质保障能力的国内头号厂家。

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光电材料事业部简介

 

近年来,随着信息技术的飞速发展,对半导体材料的要求越来越高,需求量也越来越多,欧泰依托在难熔及稀贵金属领域的丰富经验,成立了光电材料事业部,主要针对光电行业提供真空镀膜耗材解决方案与半导体设备MOCVD热场解决方案。

真空镀膜有三种形式:蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀,是目前以物理气相沉积法(PVD)方式实现膜生长的主流技术。欧泰稀材生产供应各类形态的优质高纯金属蒸发料、溅射靶材,确保用户得到最佳镀膜品质。

金属有机物化学气相沉积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition,简称 MOCVD)是制备混合半导体器件、金属及金属氧化物、金属氮化物薄膜材料的一种芯片外延技术。加热系统是 MOCVD 设备的重要组成部分,它能否快速、均匀的加热衬底,直接影响着薄膜沉积的质量、厚度一致性,以及芯片的性能。欧泰稀材旗下的铼因合金拥有10年MOCVD用铼加热器专业制作技术经验及完善的品控管理体系,是替代MOCVD用铼加热器进口大牌或原厂配件,能够进行OEM全工序代工代制,最具技术开发实力和品质保障能力的国内头号厂家。

 

联系方式

负责人:张经理

电话:18608419172

邮箱:ultra@ultramet.com.cn


光电事业部提供哪些服务?

 

1、光电行业提供真空镀膜耗材解决方案

真空镀膜有三种形式:蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀,是目前以物理气相沉积法(PVD)方式实现膜生长的主流技术。欧泰稀材生产供应各类形态的高纯金属蒸发料、溅射靶材,确保用户得到好的镀膜品质。

 

2、半导体设备MOCVD热场解决方案

半导体、微电子行业芯片散热(热管理)材料,其它大功率集成电路,微波射频,高压电,核能,医疗设备等众多应用场合电热传导解决方案。当下以及未来,电子元器件的微型化及多功能化对器件的散热性提出了更高要求。欧泰稀材面向用户定制一系列牌号的优质钨铜、钼铜产品


光电事业部提供哪些产品?

 

经过多年的沉淀,欧泰已形成了以稀贵金属为主的靶材及蒸镀材料产品系列,主要包含钌、铼、锇、铱等贵金属材料,钨钼钽铌等难熔金属材料。

在LED芯片外延领域,欧泰稀材旗下的铼因合金与MOCVD厂家联合研发了能替代进口的铼加热部件,产品已在行业内占据较大的市场份额。

 

 

热门产品

Hot Products

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钌靶 钌溅射靶材
钌靶主要用于真空镀膜领域<br> 纯度:99.95%<br> 用途:真空镀膜,实验或研究级别用钌靶材,电子,光电,军用,装饰镀,功能薄膜等 <br>
铱靶 铱溅射靶材
纯度: 3N5<br> 尺寸 : 1-10英寸,非常规尺寸可定做<br> 用途:铱的高温抗氧化性和热电性能使铱/铱铑热电偶成为惟一能在大气中测量达2100℃高温的贵金属测温材料<br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
铱颗粒 铱锭
铱锭、铱颗粒 Ir≥99.95%<br> 尺寸:直径D(1-20)*高度H(10-15)mm;需方如对尺寸和单重如有特殊要求,双方协议订货<br> 用途:主要用于蒸发镀膜材料<br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>  
钌粒/锭
钌锭,分子式:Ru,圆柱体或其他定制形状。 <br> 纯度:99.95% 99.98% 99.99%<br> 应用:钌锭通常作为合金元素添加剂用于制造航空用高温合金。 <br>
钨钛靶
根据使用目的不同,对高纯钨靶和钨钛靶杂质含量有不同要求,一般要求化学纯度在99.99%~99.999%之间,我们也可根据用户要求特别定制适合应用的其它规格。 <br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
铑颗粒
铑锭|粒 Rh≥99.95%<br> 规格:直径 1 ~ 30mm, 厚度 1 ~ 30mm 或定制<br> 性质:性质:银白色金属,质极硬,耐磨,也有相当的延展性<br>
铼外圈
高致密度、优良性能的铼板精密轧制铼片,精密电子束焊接,完善的表面处理达到较高发射率。<br> 加工方式:非标准件按客户图纸加工;提供标准配件K465i、K700、A7;提供产品修补服务。 <br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
钨中圈
采用高纯钨板进行慢走丝切割,确保钨中圈稳定的高温使用性能与成品尺寸。<br> 厚度范围: 1.2-2.4mm  或根据客户要求定制 <br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
钨铼支架
用于MOCVD热场加热片支撑件,直径1mm或定制,转至模具定型,能确保较高的尺寸精度。 <br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
铼内圈
铼片厚度范围:0.15-0.3mm 或根据客户要求定制<br> 加工方式:非标准件按客户图纸加工;提供标准配件K465i、K700、A7;提供产品修补服务。 <br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
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