这是描述信息
imgboxbg

应用技术

了解前沿应用技术

搜索
搜索

应用技术

最新应用技术

贵金属系列四《钌在合金添加中的应用》
贵金属系列四《钌在合金添加中的应用》
钌作为一种稀有的贵金属,在合金添加中的应用受到了越来越多的研究和关注。通过添加适量的钌元素,可以改善合金的性能,提高其机械性能、耐腐蚀性和耐高温性能。此外,钌合金还因具有良好的电化学性能,使其成为电池和电催化剂制备领域的理想材料。本文探讨钌在合金添加中的应用,并提供有关其优势和潜在应用领域的综合信息。
2024-03-18
查看详情
钌作为一种稀有的贵金属,在合金添加中的应用受到了越来越多的研究和关注。通过添加适量的钌元素,可以改善合金的性能,提高其机械性能、耐腐蚀性和耐高温性能。此外,钌合金还因具有良好的电化学性能,使其成为电池和电催化剂制备领域的理想材料。本文探讨钌在合金添加中的应用,并提供有关其优势和潜在应用领域的综合信息。
贵金属系列三《银在高端制造业中应用之电子半导体和光学行业》
贵金属系列三《银在高端制造业中应用之电子半导体和光学行业》
随着5G、物联网、人工智能等科技的快速发展,对高性能半导体器件和光学材料的需求日益增长,银作为一种独特的金属材料,其在电子半导体和光学领域的应用前景广阔,随着相关行业和技术的发展,银在高端制造业中的地位和作用将越来越重要。
2023-12-28
查看详情
随着5G、物联网、人工智能等科技的快速发展,对高性能半导体器件和光学材料的需求日益增长,银作为一种独特的金属材料,其在电子半导体和光学领域的应用前景广阔,随着相关行业和技术的发展,银在高端制造业中的地位和作用将越来越重要。
贵金属系列二《黄金在高端制造业中应用之—生物医药与化工催化》
贵金属系列二《黄金在高端制造业中应用之—生物医药与化工催化》
黄金的化学性质稳定,与其它贵金属元素相比,黄金因具有良好的生物兼容性和力学性能,进而成为重要的人造器官材料和外科移植材料,如神经修复、心脏起搏器等都使用了黄金和合金材料。
2023-10-17
查看详情
黄金的化学性质稳定,与其它贵金属元素相比,黄金因具有良好的生物兼容性和力学性能,进而成为重要的人造器官材料和外科移植材料,如神经修复、心脏起搏器等都使用了黄金和合金材料。
贵金属系列二《黄金在高端制造业中应用之一一电子半导体》
贵金属系列二《黄金在高端制造业中应用之一一电子半导体》
随着电子半导体行业设备设计的不断发展和未来需求的不断增长,需要高度精确的芯片制造过程,这就需要黄金等贵金属提供帮助。尽管这些微缩电子元件的黄金需求相对较少,但缺少黄金仍会显著影响芯片和终端设备的性能。因此黄金这种古老的贵金属,在现代半导体技术中仍然展现出其强大的活力和潜力。从连接线到抛光工艺,再到微型化的发展,金都在其中发挥着关键作用。随着半导体技术的持续进步,我们期待金在此领域中的应用将更加广泛和深入。
2023-08-29
查看详情
随着电子半导体行业设备设计的不断发展和未来需求的不断增长,需要高度精确的芯片制造过程,这就需要黄金等贵金属提供帮助。尽管这些微缩电子元件的黄金需求相对较少,但缺少黄金仍会显著影响芯片和终端设备的性能。因此黄金这种古老的贵金属,在现代半导体技术中仍然展现出其强大的活力和潜力。从连接线到抛光工艺,再到微型化的发展,金都在其中发挥着关键作用。随着半导体技术的持续进步,我们期待金在此领域中的应用将更加广泛和深入。
真空镀膜材料及技术系列五《化学气相沉积法镀膜概述》
真空镀膜材料及技术系列五《化学气相沉积法镀膜概述》
随着航天航空领域、核工业和半导体等领域对于半导体器件和集成电路、高场强小型的超导材料、生成晶须等产品要求的不断提高,化学气相沉积技术作为重要的材料制备和有效的材料表面改性方法,具有十分广阔的市场应用前景。
2023-07-05
查看详情
随着航天航空领域、核工业和半导体等领域对于半导体器件和集成电路、高场强小型的超导材料、生成晶须等产品要求的不断提高,化学气相沉积技术作为重要的材料制备和有效的材料表面改性方法,具有十分广阔的市场应用前景。
上一页
1
2
3
4

热点应用技术排行榜

贵金属系列四《钌在合金添加中的应用》
贵金属系列四《钌在合金添加中的应用》
钌作为一种稀有的贵金属,在合金添加中的应用受到了越来越多的研究和关注。通过添加适量的钌元素,可以改善合金的性能,提高其机械性能、耐腐蚀性和耐高温性能。此外,钌合金还因具有良好的电化学性能,使其成为电池和电催化剂制备领域的理想材料。本文探讨钌在合金添加中的应用,并提供有关其优势和潜在应用领域的综合信息。
查看详情
钌作为一种稀有的贵金属,在合金添加中的应用受到了越来越多的研究和关注。通过添加适量的钌元素,可以改善合金的性能,提高其机械性能、耐腐蚀性和耐高温性能。此外,钌合金还因具有良好的电化学性能,使其成为电池和电催化剂制备领域的理想材料。本文探讨钌在合金添加中的应用,并提供有关其优势和潜在应用领域的综合信息。
贵金属系列三《银在高端制造业中应用之电子半导体和光学行业》
贵金属系列三《银在高端制造业中应用之电子半导体和光学行业》
随着5G、物联网、人工智能等科技的快速发展,对高性能半导体器件和光学材料的需求日益增长,银作为一种独特的金属材料,其在电子半导体和光学领域的应用前景广阔,随着相关行业和技术的发展,银在高端制造业中的地位和作用将越来越重要。
查看详情
随着5G、物联网、人工智能等科技的快速发展,对高性能半导体器件和光学材料的需求日益增长,银作为一种独特的金属材料,其在电子半导体和光学领域的应用前景广阔,随着相关行业和技术的发展,银在高端制造业中的地位和作用将越来越重要。
贵金属系列二《黄金在高端制造业中应用之—生物医药与化工催化》
贵金属系列二《黄金在高端制造业中应用之—生物医药与化工催化》
黄金的化学性质稳定,与其它贵金属元素相比,黄金因具有良好的生物兼容性和力学性能,进而成为重要的人造器官材料和外科移植材料,如神经修复、心脏起搏器等都使用了黄金和合金材料。
查看详情
黄金的化学性质稳定,与其它贵金属元素相比,黄金因具有良好的生物兼容性和力学性能,进而成为重要的人造器官材料和外科移植材料,如神经修复、心脏起搏器等都使用了黄金和合金材料。
贵金属系列二《黄金在高端制造业中应用之一一电子半导体》
贵金属系列二《黄金在高端制造业中应用之一一电子半导体》
随着电子半导体行业设备设计的不断发展和未来需求的不断增长,需要高度精确的芯片制造过程,这就需要黄金等贵金属提供帮助。尽管这些微缩电子元件的黄金需求相对较少,但缺少黄金仍会显著影响芯片和终端设备的性能。因此黄金这种古老的贵金属,在现代半导体技术中仍然展现出其强大的活力和潜力。从连接线到抛光工艺,再到微型化的发展,金都在其中发挥着关键作用。随着半导体技术的持续进步,我们期待金在此领域中的应用将更加广泛和深入。
查看详情
随着电子半导体行业设备设计的不断发展和未来需求的不断增长,需要高度精确的芯片制造过程,这就需要黄金等贵金属提供帮助。尽管这些微缩电子元件的黄金需求相对较少,但缺少黄金仍会显著影响芯片和终端设备的性能。因此黄金这种古老的贵金属,在现代半导体技术中仍然展现出其强大的活力和潜力。从连接线到抛光工艺,再到微型化的发展,金都在其中发挥着关键作用。随着半导体技术的持续进步,我们期待金在此领域中的应用将更加广泛和深入。
真空镀膜材料及技术系列五《化学气相沉积法镀膜概述》
真空镀膜材料及技术系列五《化学气相沉积法镀膜概述》
随着航天航空领域、核工业和半导体等领域对于半导体器件和集成电路、高场强小型的超导材料、生成晶须等产品要求的不断提高,化学气相沉积技术作为重要的材料制备和有效的材料表面改性方法,具有十分广阔的市场应用前景。
查看详情
随着航天航空领域、核工业和半导体等领域对于半导体器件和集成电路、高场强小型的超导材料、生成晶须等产品要求的不断提高,化学气相沉积技术作为重要的材料制备和有效的材料表面改性方法,具有十分广阔的市场应用前景。
真空镀膜材料及技术系列四《真空离子镀膜概述》
真空镀膜材料及技术系列四《真空离子镀膜概述》
随着科学技术的飞速发展,机械制造业在生产中起着越来越重要的作用。而机械零件表面的腐蚀问题,对机械制造行业来说是一个重大的问题。因此,如何提高零件表面硬度、耐磨性、耐腐蚀性等性能是机械制造业的一大关键。在零件表面涂覆涂层是提高其性能最常用的方法之一,但是涂层技术有很多缺点,例如:涂层的结合力差,易脱落;涂层与基体材料之间有较大的热膨胀系数差异,涂层易开裂等。这些缺点限制了它在实际生产中的应用。目前,国内外研究和开发出了多种方法来解决上述问题。其中利用物理气相沉积法(PVD)是一种很有发展前途的技术,而真空离子镀膜技术则是其中一种新型的技术。
查看详情
随着科学技术的飞速发展,机械制造业在生产中起着越来越重要的作用。而机械零件表面的腐蚀问题,对机械制造行业来说是一个重大的问题。因此,如何提高零件表面硬度、耐磨性、耐腐蚀性等性能是机械制造业的一大关键。在零件表面涂覆涂层是提高其性能最常用的方法之一,但是涂层技术有很多缺点,例如:涂层的结合力差,易脱落;涂层与基体材料之间有较大的热膨胀系数差异,涂层易开裂等。这些缺点限制了它在实际生产中的应用。目前,国内外研究和开发出了多种方法来解决上述问题。其中利用物理气相沉积法(PVD)是一种很有发展前途的技术,而真空离子镀膜技术则是其中一种新型的技术。
真空镀膜材料及技术系列三《蒸发镀膜技术概述与优质蒸镀材料的选择》
真空镀膜材料及技术系列三《蒸发镀膜技术概述与优质蒸镀材料的选择》
蒸发镀膜是PVD真空镀膜方式的一种,其特点是在真空条件下,材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜,再经高温热处理后,在玻璃表面形成附着力很强的膜层。溅射镀膜和蒸发镀膜是目前最主流的两种 PVD 镀膜方式。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制,可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜,所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点,已成为制备薄膜材料的主要技术之一。
查看详情
蒸发镀膜是PVD真空镀膜方式的一种,其特点是在真空条件下,材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜,再经高温热处理后,在玻璃表面形成附着力很强的膜层。溅射镀膜和蒸发镀膜是目前最主流的两种 PVD 镀膜方式。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制,可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜,所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点,已成为制备薄膜材料的主要技术之一。
真空镀膜材料及技术系列二《高品质溅射靶材有哪些特点?》
真空镀膜材料及技术系列二《高品质溅射靶材有哪些特点?》
真空镀膜技术主要涉及用不同的真空镀膜设备和工艺方式,将镀膜材料生成在特定的基材表面,以制备各种具有特定功能的薄膜材料。真空镀膜技术应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。薄膜材料生长于基板材料(如屏显玻璃、光学玻璃等)之上,一般由金属、非金属、合金或化合物等材料(统称镀膜材料)经过镀膜后形成,具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能,并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。由于薄膜材料就是镀膜材料转移至基板之后形成的,所以薄膜品质的好坏高低与镀膜材料的品质优劣是直接相关的关系。目前,薄膜材料制备技术主要包括:物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。物理气相沉积(PVD)技术主要包含真空溅射镀膜、真空蒸发镀膜、真空离子镀膜三种方式。
查看详情
真空镀膜技术主要涉及用不同的真空镀膜设备和工艺方式,将镀膜材料生成在特定的基材表面,以制备各种具有特定功能的薄膜材料。真空镀膜技术应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。薄膜材料生长于基板材料(如屏显玻璃、光学玻璃等)之上,一般由金属、非金属、合金或化合物等材料(统称镀膜材料)经过镀膜后形成,具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能,并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。由于薄膜材料就是镀膜材料转移至基板之后形成的,所以薄膜品质的好坏高低与镀膜材料的品质优劣是直接相关的关系。目前,薄膜材料制备技术主要包括:物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。物理气相沉积(PVD)技术主要包含真空溅射镀膜、真空蒸发镀膜、真空离子镀膜三种方式。
真空镀膜材料及技术系列一《真空镀膜材料及技术概述》
真空镀膜材料及技术系列一《真空镀膜材料及技术概述》
真空镀膜技术主要涉及用不同的真空镀膜设备和工艺方式,将镀膜材料生成在特定的基材表面,以制备各种具有特定功能的薄膜材料。真空镀膜技术应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。薄膜材料生长于基板材料(如屏显玻璃、光学玻璃等)之上,一般由金属、非金属、合金或化合物等材料(统称镀膜材料)经过镀膜后形成,具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能,并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。由于薄膜材料就是镀膜材料转移至基板之后形成的,所以薄膜品质的好坏高低与镀膜材料的品质优劣是直接相关的关系。目前,薄膜材料制备技术主要包括:物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。物理气相沉积(PVD)技术主要包含真空溅射镀膜、真空蒸发镀膜、真空离子镀膜三种方式。
查看详情
真空镀膜技术主要涉及用不同的真空镀膜设备和工艺方式,将镀膜材料生成在特定的基材表面,以制备各种具有特定功能的薄膜材料。真空镀膜技术应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。薄膜材料生长于基板材料(如屏显玻璃、光学玻璃等)之上,一般由金属、非金属、合金或化合物等材料(统称镀膜材料)经过镀膜后形成,具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能,并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。由于薄膜材料就是镀膜材料转移至基板之后形成的,所以薄膜品质的好坏高低与镀膜材料的品质优劣是直接相关的关系。目前,薄膜材料制备技术主要包括:物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。物理气相沉积(PVD)技术主要包含真空溅射镀膜、真空蒸发镀膜、真空离子镀膜三种方式。
二维码

扫描二维码,关注公众号,了解更多前沿技术。

在线客服

版权所有: 湖南欧泰稀有金属有限公司      湘ICP备17001881号       网站建设:中企动力长沙