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| 半导体设备MOCVD热场解决方案

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金属有机物化学气相沉积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition,简称 MOCVD)是制备混合半导体器件、金属及金属氧化物、金属氮化物薄膜材料的一种芯片外延技术。加热系统是 MOCVD 设备的重要组成部分,它能否快速、均匀的加热衬底,直接影响着薄膜沉积的质量、厚度一致性,以及芯片的性能。欧泰稀材旗下的铼因合金拥有10年MOCVD用铼加热器专业制作技术经验及完善的品控管理体系,是替代MOCVD用铼加热器进口大牌或原厂配件,能够进行OEM全工序代工代制,具备技术开发实力和品质保障能力的国内厂家。
产品编号
所属分类
解决方案
数量
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产品描述
参数

方案优势

Solution advantages

 

MCOVD外圈
高致密度、优良性能的铼板精密轧制铼片,精密电子束焊接,完善的表面处理达到较高发射率。
 2  MCOVD中圈
采用高纯钨板进行慢走丝切割,确保钨中圈稳定的高温使用性能与成品尺寸。
 3  MCOVD内圈
高致密度、优良性能的铼板精密轧制薄铼片,模具进行折弯,通过高温热处理,能有效防止高温使用时铼圈变形。
 4  MCOVD支架
用于MOCVD热场加热片支撑件,直径1mm或定制,转至模具定型,能确保较高的尺寸精度。

 

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方案组合

欧泰稀材

Product portfolio

铼外圈
铼外圈
高致密度、优良性能的铼板精密轧制铼片,精密电子束焊接,完善的表面处理达到较高发射率。
加工方式:非标准件按客户图纸加工;提供标准配件K465i、K700、A7;提供产品修补服务。

联系人:张经理 18608419172 微信同号
钨中圈
钨中圈
采用高纯钨板进行慢走丝切割,确保钨中圈稳定的高温使用性能与成品尺寸。
厚度范围: 1.2-2.4mm  或根据客户要求定制

联系人:张经理 18608419172 微信同号
钨铼支架
钨铼支架
用于MOCVD热场加热片支撑件,直径1mm或定制,转至模具定型,能确保较高的尺寸精度。

联系人:张经理 18608419172 微信同号
铼内圈
铼内圈
铼片厚度范围:0.15-0.3mm 或根据客户要求定制
加工方式:非标准件按客户图纸加工;提供标准配件K465i、K700、A7;提供产品修补服务。

联系人:张经理 18608419172 微信同号
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