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产品描述
产品介绍
纯度：≥99.95% 密度：≥8.6g/cm3 熔点：2468℃
供货状态：冷轧光亮面 尺寸范围：0.025min X 500max X L
生产工艺：原材料-真空熔炼-锻造-铌锭-轧制-铌板成品。
用途：真空镀膜，超导电，平面显示屏，触摸屏
关键词:
钼铌靶
钼铌合金靶
铝硅真空镀膜靶
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规格：纯度Re≥99.99%~99.999%，形状、尺寸、密度接受各种定制产品。<br>
铼靶材用于磁控溅射镀膜，磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相（PVD）镀膜方式，相比于蒸发镀膜方式，其在很多方面有相当明显的优势，作为一项已经发展得较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域，比如在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛应用。
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<a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人：张经理 18608419172 微信同号</a>
纯度：4N-5N<br>
尺寸：直径50～400mm，厚度3～28mm<br>
可根据客户要求定制<br>
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<a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人：张经理 18608419172 微信同号</a>
钼中加入14 ％至 4 7.5 % 的铼而形成的一类合金，加入铼后合金延展性、焊接性能和成形性能可极大地提高，即使经过高温使用后，钼铼合金仍能保持良好的延展性。钼铼合金广泛应用于电子工业、核工业和航空航天工业。
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