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离子注入是近三十年来国际上蓬勃发展和广泛应用的一种材料表面改性高新技术，实现了材料的表面性能的优化或可以获得某些新的优异性能。由于此项高新技术独特而突出的特点，在现代集成电路制造中是一项非常重要的技术。它利用离子注入机实现半导体的掺杂，改变半导体的导电性与晶体管结构。<br>
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<a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人：张经理 18608419172 微信同号</a>
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钨离子注入件
钼离子注入件
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