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铝硅靶
Si-Al靶材,Si含量从50%~90%范围内可调控。材料组织均匀性好、致密度高,晶粒细小。 技术参数:采用采用粉末冶金的方法制成,纯度≥99.9%,相对密度大于99%,尺寸根据客户要求定。

联系人:张经理 18608419172 微信同号
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产品描述

产品基本信息

Si-Al靶材,Si含量从50%~90%范围内可调控。材料组织均匀性好、致密度高,晶粒细小。 技术参数:采用采用粉末冶金的方法制成,纯度≥99.9%,相对密度大于99%,尺寸根据客户要求定。

主要用途

用于玻璃镀膜、太阳能电池镀膜、触摸屏镀膜、LCD镀膜及半导体行业,电子封装等。

关键词:
铝硅靶
铝硅溅射靶材
半导体镀膜靶材
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