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钨铼靶
钨铼靶材
钨铼配比:WRe3%, WRe5% ,WRe10%, WRe25%, WRe26%
尺寸范围:厚(0.2-20)×宽(≯500)×长(≯1000)
我司采用固液法混料提高铼的均匀性,同时通过多次锻打和退火提高密度和改善组织,提高阳极靶的使用性能和寿命。

联系人:张经理 18608419172 微信同号
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产品描述

产品说明

钨铼配比:WRe3%, WRe5% ,WRe10%, WRe25%, WRe26%

尺寸范围:厚(0.2-20)×宽(≯500)×长(≯1000)

我司采用固液法混料提高铼的均匀性,同时通过多次锻打和退火提高密度和改善组织,提高阳极靶的使用性能和寿命。

工艺流程:配粉→压制→烧结→锻打→退火→机加工→动平衡→真空除气→包装

 

用途

钨具有高熔点,且被高速电子束照射时可以产生X射线,因此常被用作各种X射线管的X射线发生源,而钨铼靶材兼具高强度、韧性、耐热性以及高精度等优点,同时支持高功率电子束,常被用于医用X射线管。同时钨铼靶还广泛应用于磁控溅射中。

 

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关键词:
钨铼靶
钨铼溅射靶
钨铼X射线靶
钨铼CT球管靶
溅射钨铼靶
钨铼合金靶
半导体靶材
高纯钨铼靶
溅射镀膜靶材
PVD靶材
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