5N高纯钨粉 欧泰专产半导体 电子级 离子注入用高纯钨粉<br> 规格：3-5um<br> 纯度：4N-6N<br> 用途：用于制备高纯钨靶和高纯钨合金靶材，制备硬质合金工具，粉末冶金，金刚石工具，高比重合金，触头，难熔合金。钨合金，如钨钼合金、钨铼合金、钨铜合金和高密度钨合金等<br> 产品特性：高比重，耐高温，硬度高 <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人：张经理 18608419172 微信同号</a>

1、纯度：99.95%；99.99%;99.999%<br /> 2、密度：  ≥19.1g/cm3；<br> 3、平整度：≤2%； <br /> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人：张经理 18608419172 微信同号</a>

纯度：Pd≥99.95%<br /> 尺寸：戒面宽度约4mm，壁厚约1.5mm，内圈周长52、54、56、58、60、62、64mm<br /> 工艺：抛光<br /> 款式：弧面款或平面款<br />

执行标准：ASTM B 365  GB/T26012-2010<br> 牌号：Ta1，Ta2 <br> 纯度:99.95%    99.99% <br>

纯度：Ti ≥99.95%<br /> 尺寸：戒面宽度约4mm，壁厚约1.5mm，内圈周长52、54、56、58、60、62、64mm<br /> 工艺：抛光<br /> 款式：弧面款或平面款<br />

钌粉，分子式：Ru，灰黑色金属粉末。<br> 应用：钌粉主要应用于化合物、浆料、金属或功能合金材料，广泛使用于传统工业、高新技术、军工宇航等各个领域。

钌靶主要用于真空镀膜领域<br> 纯度：99.95%<br> 用途：真空镀膜，实验或研究级别用钌靶材，电子，光电，军用，装饰镀，功能薄膜等 <br>

钌粉，分子式：Ru，灰黑色金属粉末。<br> 应用：钌粉主要应用于化合物、浆料、金属或功能合金材料，广泛使用于传统工业、高新技术、军工宇航等各个领域。<br> 超细钌粉主要应用于硬质合金行业。 <br>

纯度：Nb ≥99.95%<br /> 尺寸：戒面宽度约4mm，壁厚约1.5mm，内圈周长52、54、56、58、60、62、64mm<br /> 工艺：抛光<br /> 款式：弧面款或平面款<br />

纯度：Ru≥99.95%<br /> 尺寸：戒面宽度约4mm，壁厚约1.5mm，内圈周长52、54、56、58、60、62、64mm<br /> 工艺：抛光<br /> 款式：弧面款或平面款<br />

纯度：Ta≥99.95%<br /> 尺寸：戒面宽度约4mm，壁厚约1.5mm，内圈周长52、54、56、58、60、62、64mm<br /> 工艺：抛光<br /> 款式：弧面款或平面款<br />

纯度：Ir≥99.95%<br /> 尺寸：戒面宽度约4mm，壁厚约1.5mm，内圈周长52、54、56、58、60、62、64mm<br /> 工艺：抛光<br /> 款式：弧面款或平面款<br />