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高纯靶材
编号:
1、纯度:99.95%;99.99%;99.999%<br> 2、密度:  ≥19.1g/cm3;<br> 3、平整度:≤2%;  <br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
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关键字:
钨靶 高纯钨靶
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钨合金靶
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高纯钨靶
溅射镀膜靶材
PVD靶材
编号:
根据使用目的不同,对高纯钨靶和钨钛靶杂质含量有不同要求,一般要求化学纯度在99.99%~99.999%之间,我们也可根据用户要求特别定制适合应用的其它规格。 <br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
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钨钛靶
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PVD靶材
编号:
钌靶主要用于真空镀膜领域<br> 纯度:99.95%<br> 用途:真空镀膜,实验或研究级别用钌靶材,电子,光电,军用,装饰镀,功能薄膜等 <br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
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钌靶
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PVD靶材
编号:
化学纯度:99.95%<br> 尺寸:直径20~300mm,厚度1~60mm按要求定制<br> 应用:锇靶主要用于真空镀膜领域    <br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
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锇靶
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PVD靶材
编号:
规格:99.95%,圆形或方形 现代先进的钼、铑双靶X线机照相已成为乳腺检查的首选方法,它具有高清晰度、高对比度的特点,能充分显示微小钙化征象,是目前乳腺癌普查首选的影像检查方法。<br> 规格:直径Φ50~170mm 厚度3~15mm <br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
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关键字:
铑钯
铑X射线靶
铑溅射靶
编号:
纯度:4N-5N<br> 尺寸:直径50~400mm,厚度3~28mm<br> 可根据客户要求定制<br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
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关键字:
高纯钛靶
钛靶
钛溅射靶材
纯钛靶
编号:
钨铼配比:WRe3%, WRe5% ,WRe10%, WRe25%, WRe26%<br> 尺寸范围:厚(0.2-20)×宽(≯500)×长(≯1000) <br> 我司采用固液法混料提高铼的均匀性,同时通过多次锻打和退火提高密度和改善组织,提高阳极靶的使用性能和寿命。 <br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
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关键字:
钨铼靶
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钨铼X射线靶
钨铼CT球管靶
溅射钨铼靶
钨铼合金靶
半导体靶材
高纯钨铼靶
溅射镀膜靶材
PVD靶材
编号:
化学纯度:99.99%<br> 尺寸:直径20~300mm,厚度1~60mm按要求定制<br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
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关键字:
溅射镀膜金靶
金靶材
金溅射靶材
Au溅射靶材
编号:
纯度规格:99.95%;99.98%<br> 密度:≥10.10g/cm3<br> 组织:平均晶粒度小于150微米,典型靶材及表面组织<br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
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关键字:
钼靶
钼溅射靶
金属钼靶
编号:
Si-Al靶材,Si含量从50%~90%范围内可调控。材料组织均匀性好、致密度高,晶粒细小。 技术参数:采用采用粉末冶金的方法制成,纯度≥99.9%,相对密度大于99%,尺寸根据客户要求定。 <br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
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关键字:
铝硅靶
铝硅溅射靶材
半导体镀膜靶材
编号:
纯度:≥99.95% 密度:≥8.6g/cm3 熔点:2468℃ <br> 供货状态:冷轧光亮面 尺寸范围:0.025min X 500max X L<br> 用途:真空镀膜,超导电,平面显示屏,触摸屏 <br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
编号:
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关键字:
钼铌靶
钼铌合金靶
铝硅真空镀膜靶
编号:
钽片、钽板可用于制造各种无机酸的的制取设备,耐腐蚀的紧固件,高温真空炉中的支撑附件、热屏蔽、加热器和散热片等零部件,水箱、桥梁等钢结构的阴极保护系统。 <br> <br> <a href="tel:18608419172" style="color:red;font-weight: bold;">联系人:张经理 18608419172 微信同号</a>
编号:
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关键字:
钽靶
钽溅射靶材
金属钽靶
钽靶材料制造商
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