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  • 分类：发展大事件
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  • 发布时间：2020-12-01 19:12
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【概要描述】20132013年始，经历4个多月的改造、搬迁、采购，公司将试验厂和办公室第三次搬迁至长沙暮云工业园内，并开始实现年产值过千万。

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【概要描述】20132013年始，经历4个多月的改造、搬迁、采购，公司将试验厂和办公室第三次搬迁至长沙暮云工业园内，并开始实现年产值过千万。

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2013年始，经历4个多月的改造、搬迁、采购，公司将试验厂和办公室第三次搬迁至长沙暮云工业园内，并开始实现年产值过千万。

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热点应用技术排行榜

贵金属锇系列《致密星辰：金属锇的现代应用与未来图景》
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2025-02-26
作为地球上最稀有的元素之一，锇的全球年产量不足1吨，却凭借高熔点、超高硬度及催化活性，正在催化剂、医药、合金添加剂等领域大放异彩。本文将从实际应用场景出发，带您深入了解锇的非凡价值。
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作为地球上最稀有的元素之一，锇的全球年产量不足1吨，却凭借高熔点、超高硬度及催化活性，正在催化剂、医药、合金添加剂等领域大放异彩。本文将从实际应用场景出发，带您深入了解锇的非凡价值。
贵金属系列四《钌在薄膜材料中的应用》
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2024-05-23
钌及其化合物在薄膜材料领域展现出了广泛的应用潜力和显著的优势，钌无疑为现代电子工业的发展提供了重要的支持。随着科技的进步和研究的深入，钌及其化合物在薄膜材料领域的应用将会更加广泛和多样化。
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钌及其化合物在薄膜材料领域展现出了广泛的应用潜力和显著的优势，钌无疑为现代电子工业的发展提供了重要的支持。随着科技的进步和研究的深入，钌及其化合物在薄膜材料领域的应用将会更加广泛和多样化。
贵金属系列四《钌正合金添加中的应用》
贵金属系列四《钌正合金添加中的应用》
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2024-03-18
通过添加适量的钌元素，可以显著改善合金的性能，提高其机械性能、耐腐蚀性和耐高温性能。此外，钌合金还具有出色的电化学性能，可用于制备高效能的电池和电催化剂。因此，钌在合金添加中的应用具有广阔的发展前景，值得进一步研究和探索。
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通过添加适量的钌元素，可以显著改善合金的性能，提高其机械性能、耐腐蚀性和耐高温性能。此外，钌合金还具有出色的电化学性能，可用于制备高效能的电池和电催化剂。因此，钌在合金添加中的应用具有广阔的发展前景，值得进一步研究和探索。
贵金属系列三《银在高端制造业中应用之电子半导体和光学行业》
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2023-12-28
随着5G、物联网、人工智能等科技的快速发展,对高性能半导体器件和光学材料的需求日益增长，银作为一种独特的金属材料,其在电子半导体和光学领域的应用前景广阔,随着相关行业和技术的发展,银在高端制造业中的地位和作用将越来越重要。
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随着5G、物联网、人工智能等科技的快速发展,对高性能半导体器件和光学材料的需求日益增长，银作为一种独特的金属材料,其在电子半导体和光学领域的应用前景广阔,随着相关行业和技术的发展,银在高端制造业中的地位和作用将越来越重要。
贵金属系列二《黄金在高端制造业中应用之—生物医药与化工催化》
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2023-10-17
黄金的化学性质稳定，与其它贵金属元素相比，黄金因具有良好的生物兼容性和力学性能，进而成为重要的人造器官材料和外科移植材料，如神经修复、心脏起搏器等都使用了黄金和合金材料。
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黄金的化学性质稳定，与其它贵金属元素相比，黄金因具有良好的生物兼容性和力学性能，进而成为重要的人造器官材料和外科移植材料，如神经修复、心脏起搏器等都使用了黄金和合金材料。
贵金属系列二《黄金在高端制造业中应用之一一电子半导体》
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2023-08-29
随着电子半导体行业设备设计的不断发展和未来需求的不断增长，需要高度精确的芯片制造过程，这就需要黄金等贵金属提供帮助。尽管这些微缩电子元件的黄金需求相对较少，但缺少黄金仍会显著影响芯片和终端设备的性能。因此黄金这种古老的贵金属，在现代半导体技术中仍然展现出其强大的活力和潜力。从连接线到抛光工艺，再到微型化的发展，金都在其中发挥着关键作用。随着半导体技术的持续进步，我们期待金在此领域中的应用将更加广泛和深入。
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随着电子半导体行业设备设计的不断发展和未来需求的不断增长，需要高度精确的芯片制造过程，这就需要黄金等贵金属提供帮助。尽管这些微缩电子元件的黄金需求相对较少，但缺少黄金仍会显著影响芯片和终端设备的性能。因此黄金这种古老的贵金属，在现代半导体技术中仍然展现出其强大的活力和潜力。从连接线到抛光工艺，再到微型化的发展，金都在其中发挥着关键作用。随着半导体技术的持续进步，我们期待金在此领域中的应用将更加广泛和深入。
真空镀膜材料及技术系列五《化学气相沉积法镀膜概述》
真空镀膜材料及技术系列五《化学气相沉积法镀膜概述》
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2023-07-05
随着航天航空领域、核工业和半导体等领域对于半导体器件和集成电路、高场强小型的超导材料、生成晶须等产品要求的不断提高，化学气相沉积技术作为重要的材料制备和有效的材料表面改性方法，具有十分广阔的市场应用前景。
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随着航天航空领域、核工业和半导体等领域对于半导体器件和集成电路、高场强小型的超导材料、生成晶须等产品要求的不断提高，化学气相沉积技术作为重要的材料制备和有效的材料表面改性方法，具有十分广阔的市场应用前景。
真空镀膜材料及技术系列四《真空离子镀膜概述》
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2023-06-14
随着科学技术的飞速发展，机械制造业在生产中起着越来越重要的作用。而机械零件表面的腐蚀问题，对机械制造行业来说是一个重大的问题。因此，如何提高零件表面硬度、耐磨性、耐腐蚀性等性能是机械制造业的一大关键。在零件表面涂覆涂层是提高其性能最常用的方法之一，但是涂层技术有很多缺点，例如：涂层的结合力差，易脱落；涂层与基体材料之间有较大的热膨胀系数差异，涂层易开裂等。这些缺点限制了它在实际生产中的应用。目前，国内外研究和开发出了多种方法来解决上述问题。其中利用物理气相沉积法（PVD）是一种很有发展前途的技术，而真空离子镀膜技术则是其中一种新型的技术。
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随着科学技术的飞速发展，机械制造业在生产中起着越来越重要的作用。而机械零件表面的腐蚀问题，对机械制造行业来说是一个重大的问题。因此，如何提高零件表面硬度、耐磨性、耐腐蚀性等性能是机械制造业的一大关键。在零件表面涂覆涂层是提高其性能最常用的方法之一，但是涂层技术有很多缺点，例如：涂层的结合力差，易脱落；涂层与基体材料之间有较大的热膨胀系数差异，涂层易开裂等。这些缺点限制了它在实际生产中的应用。目前，国内外研究和开发出了多种方法来解决上述问题。其中利用物理气相沉积法（PVD）是一种很有发展前途的技术，而真空离子镀膜技术则是其中一种新型的技术。
真空镀膜材料及技术系列三《蒸发镀膜技术概述与优质蒸镀材料的选择》
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2023-04-21
蒸发镀膜是PVD真空镀膜方式的一种，其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。溅射镀膜和蒸发镀膜是目前最主流的两种 PVD 镀膜方式。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一。
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蒸发镀膜是PVD真空镀膜方式的一种，其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。溅射镀膜和蒸发镀膜是目前最主流的两种 PVD 镀膜方式。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一。
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