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  • 分类：发展大事件
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  • 发布时间：2020-12-01 19:12
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【概要描述】20132013年始，经历4个多月的改造、搬迁、采购，公司将试验厂和办公室第三次搬迁至长沙暮云工业园内，并开始实现年产值过千万。

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【概要描述】20132013年始，经历4个多月的改造、搬迁、采购，公司将试验厂和办公室第三次搬迁至长沙暮云工业园内，并开始实现年产值过千万。

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2013年始，经历4个多月的改造、搬迁、采购，公司将试验厂和办公室第三次搬迁至长沙暮云工业园内，并开始实现年产值过千万。

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真空镀膜材料及技术系列三《蒸发镀膜技术概述与优质蒸镀材料的选择》
真空镀膜材料及技术系列三《蒸发镀膜技术概述与优质蒸镀材料的选择》
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2023-04-21
蒸发镀膜是PVD真空镀膜方式的一种，其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。溅射镀膜和蒸发镀膜是目前最主流的两种 PVD 镀膜方式。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一。
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蒸发镀膜是PVD真空镀膜方式的一种，其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。溅射镀膜和蒸发镀膜是目前最主流的两种 PVD 镀膜方式。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一。
真空镀膜材料及技术系列二《高品质溅射靶材有哪些特点？》
真空镀膜材料及技术系列二《高品质溅射靶材有哪些特点？》
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2023-03-02
真空镀膜技术主要涉及用不同的真空镀膜设备和工艺方式，将镀膜材料生成在特定的基材表面，以制备各种具有特定功能的薄膜材料。真空镀膜技术应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。薄膜材料生长于基板材料（如屏显玻璃、光学玻璃等）之上，一般由金属、非金属、合金或化合物等材料（统称镀膜材料）经过镀膜后形成，具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能，并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。由于薄膜材料就是镀膜材料转移至基板之后形成的，所以薄膜品质的好坏高低与镀膜材料的品质优劣是直接相关的关系。目前，薄膜材料制备技术主要包括：物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积（PVD）技术主要包含真空溅射镀膜、真空蒸发镀膜、真空离子镀膜三种方式。
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真空镀膜技术主要涉及用不同的真空镀膜设备和工艺方式，将镀膜材料生成在特定的基材表面，以制备各种具有特定功能的薄膜材料。真空镀膜技术应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。薄膜材料生长于基板材料（如屏显玻璃、光学玻璃等）之上，一般由金属、非金属、合金或化合物等材料（统称镀膜材料）经过镀膜后形成，具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能，并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。由于薄膜材料就是镀膜材料转移至基板之后形成的，所以薄膜品质的好坏高低与镀膜材料的品质优劣是直接相关的关系。目前，薄膜材料制备技术主要包括：物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积（PVD）技术主要包含真空溅射镀膜、真空蒸发镀膜、真空离子镀膜三种方式。
真空镀膜材料及技术系列一《真空镀膜材料及技术概述》
真空镀膜材料及技术系列一《真空镀膜材料及技术概述》
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2023-02-16
真空镀膜技术主要涉及用不同的真空镀膜设备和工艺方式，将镀膜材料生成在特定的基材表面，以制备各种具有特定功能的薄膜材料。真空镀膜技术应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。薄膜材料生长于基板材料（如屏显玻璃、光学玻璃等）之上，一般由金属、非金属、合金或化合物等材料（统称镀膜材料）经过镀膜后形成，具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能，并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。由于薄膜材料就是镀膜材料转移至基板之后形成的，所以薄膜品质的好坏高低与镀膜材料的品质优劣是直接相关的关系。目前，薄膜材料制备技术主要包括：物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积（PVD）技术主要包含真空溅射镀膜、真空蒸发镀膜、真空离子镀膜三种方式。
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真空镀膜技术主要涉及用不同的真空镀膜设备和工艺方式，将镀膜材料生成在特定的基材表面，以制备各种具有特定功能的薄膜材料。真空镀膜技术应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。薄膜材料生长于基板材料（如屏显玻璃、光学玻璃等）之上，一般由金属、非金属、合金或化合物等材料（统称镀膜材料）经过镀膜后形成，具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能，并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。由于薄膜材料就是镀膜材料转移至基板之后形成的，所以薄膜品质的好坏高低与镀膜材料的品质优劣是直接相关的关系。目前，薄膜材料制备技术主要包括：物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积（PVD）技术主要包含真空溅射镀膜、真空蒸发镀膜、真空离子镀膜三种方式。
球形粉末的应用与制备方法
球形粉末的应用与制备方法
球形粉末的应用与制备方法
2022-10-27
球形粉末因其具有良好的流动性和高振实密度在众多领域得到越来越广泛的应用。在热喷涂领域，球形粉末因其良好的流动性，使所制得的涂层更均匀、致密，因而涂层具有更好的耐磨性；在粉末冶金领域，采用球形粉末制备的成形件密度高，烧结过程中成形件收缩均匀，因而获得的制品精度高、性能好，在注射成形、凝胶注模成形及增材制造（如3D打印技术）等先进粉末冶金成形技术应用中具有明显的优势。
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球形粉末因其具有良好的流动性和高振实密度在众多领域得到越来越广泛的应用。在热喷涂领域，球形粉末因其良好的流动性，使所制得的涂层更均匀、致密，因而涂层具有更好的耐磨性；在粉末冶金领域，采用球形粉末制备的成形件密度高，烧结过程中成形件收缩均匀，因而获得的制品精度高、性能好，在注射成形、凝胶注模成形及增材制造（如3D打印技术）等先进粉末冶金成形技术应用中具有明显的优势。
专门应对高温合金、难熔金属等材质零部件的 铣、削、钻加工刀具基体材料解决方案
专门应对高温合金、难熔金属等材质零部件的 铣、削、钻加工刀具基体材料解决方案
专门应对高温合金、难熔金属等材质零部件的 铣、削、钻加工刀具基体材料解决方案
2022-04-06
 湖南欧泰稀有金属有限公司具有十多年的合金微量添加应用开发经验，专为各合金制造企业提供稀有、稀散、稀贵金属元素添加解决方案。欧泰稀材根据近年来众多用户反映的高温合金、难熔金属等材质零部件在铣、削、钻加工中遇到的难题，经过与国内行业龙头企业五年的联合研发测试，终于成功开发了专门用于添加在此类特殊硬质合金刀具基体材料的钌、铼、锇等单质高纯超细粉末，或Co-Ru、Re、Os二元、三元预合金混合粉末，也热忱欢迎各大高性能合金刀具制造企业与我司联合定向开发各类专用定制刀具材质牌号。
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 湖南欧泰稀有金属有限公司具有十多年的合金微量添加应用开发经验，专为各合金制造企业提供稀有、稀散、稀贵金属元素添加解决方案。欧泰稀材根据近年来众多用户反映的高温合金、难熔金属等材质零部件在铣、削、钻加工中遇到的难题，经过与国内行业龙头企业五年的联合研发测试，终于成功开发了专门用于添加在此类特殊硬质合金刀具基体材料的钌、铼、锇等单质高纯超细粉末，或Co-Ru、Re、Os二元、三元预合金混合粉末，也热忱欢迎各大高性能合金刀具制造企业与我司联合定向开发各类专用定制刀具材质牌号。
钨铼合金在搅拌摩擦焊中的应用
钨铼合金在搅拌摩擦焊中的应用
钨铼合金在搅拌摩擦焊中的应用
2022-02-25
欧泰旗下湖南铼因铼合金材料有限公司，是一家专门研究和制造稀有高熔点金属“铼”以及“铼合金”材料的高科技企业。铼因公司对钨铼合金有多年研究经验，所生产的3个牌号搅拌头材料已批量应用于各行业领域，也可以根据客户需求定制新的合金牌号。
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欧泰旗下湖南铼因铼合金材料有限公司，是一家专门研究和制造稀有高熔点金属“铼”以及“铼合金”材料的高科技企业。铼因公司对钨铼合金有多年研究经验，所生产的3个牌号搅拌头材料已批量应用于各行业领域，也可以根据客户需求定制新的合金牌号。
CT机X射线管阳极旋转靶
CT机X射线管阳极旋转靶
CT机X射线管阳极旋转靶
2020-12-11
CT球管在工作时，阳极靶在高能电子束轰击下产生X射线，但是能量转换效率非常低，只有1%左右的能量转换成了X射线能，其余99%的能量则转化为热能，使得局部温度可高达2600℃。因此，旋转阳极靶需要具有高温强度高、抗热冲击性能好、散热快等特点，所以靶材的致密度、合金杂质元素含量、石墨和钼合金的钎焊结合强度是影响靶盘使用寿命的重要因素。
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CT球管在工作时，阳极靶在高能电子束轰击下产生X射线，但是能量转换效率非常低，只有1%左右的能量转换成了X射线能，其余99%的能量则转化为热能，使得局部温度可高达2600℃。因此，旋转阳极靶需要具有高温强度高、抗热冲击性能好、散热快等特点，所以靶材的致密度、合金杂质元素含量、石墨和钼合金的钎焊结合强度是影响靶盘使用寿命的重要因素。
MOCVD中不可替代的“铼”加热器件
MOCVD中不可替代的“铼”加热器件
MOCVD中不可替代的“铼”加热器件
2020-12-11
金属有机物化学气相沉积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition，简称 MOCVD)是制备混合半导体器件、金属及金属氧化物、金属氮化物薄膜材料的一种芯片外延技术。MOCVD系统中，晶体生长多在常压或低压状态下（10-100Torr），衬底温度为500～1200℃，为了能够生长出纯净、界面陡峭、一致性好的薄膜材料， MOCVD设备需要为化学反应提供合适的环境。加热系统是 MOCVD 设备的重要组成部分，它能否快速、均匀的加热衬底，直接影响着薄膜沉积的质量、厚度一致性，以及芯片的性能。
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金属有机物化学气相沉积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition，简称 MOCVD)是制备混合半导体器件、金属及金属氧化物、金属氮化物薄膜材料的一种芯片外延技术。MOCVD系统中，晶体生长多在常压或低压状态下（10-100Torr），衬底温度为500～1200℃，为了能够生长出纯净、界面陡峭、一致性好的薄膜材料， MOCVD设备需要为化学反应提供合适的环境。加热系统是 MOCVD 设备的重要组成部分，它能否快速、均匀的加热衬底，直接影响着薄膜沉积的质量、厚度一致性，以及芯片的性能。
关于MOCVD
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2020-12-01
MOCVD 设备的制造技术被国外少数几个公司所掌握，如德国的AIXTRON、英国的Thomas Swan 与EMF、美国的Veeco、日本的Nishia、Nippon Sanso 和NissinElectric 等，还有一些公司在生产过程中采用自己独特的MOCVD 设备。
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MOCVD 设备的制造技术被国外少数几个公司所掌握，如德国的AIXTRON、英国的Thomas Swan 与EMF、美国的Veeco、日本的Nishia、Nippon Sanso 和NissinElectric 等，还有一些公司在生产过程中采用自己独特的MOCVD 设备。
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