这是描述信息
imgboxbg

业界动态

通过业界了解我们更多的侧面

搜索
搜索

业界动态

您现在的位置:
首页
/
/
铱靶-溅射靶材技术

铱靶-溅射靶材技术

  • 分类:业界动态
  • 作者:
  • 来源:
  • 发布时间:2022-11-08 10:50
  • 访问量:0

【概要描述】 铱靶-溅射靶材的尺寸、平整度、纯度、杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒度及缺陷控制等要求高于传统材料行业;更高质量要求或特殊教育要求要求主要包括:表面进行粗糙度、电阻值、晶粒度分布均匀性、成分和结构可以均匀性、异物(氧化物)含量和尺寸、磁导率、超高建筑密度和超细晶粒等。

铱靶-溅射靶材技术

【概要描述】 铱靶-溅射靶材的尺寸、平整度、纯度、杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒度及缺陷控制等要求高于传统材料行业;更高质量要求或特殊教育要求要求主要包括:表面进行粗糙度、电阻值、晶粒度分布均匀性、成分和结构可以均匀性、异物(氧化物)含量和尺寸、磁导率、超高建筑密度和超细晶粒等。

  • 分类:业界动态
  • 作者:
  • 来源:
  • 发布时间:2022-11-08 10:50
  • 访问量:0
详情

    铱靶-溅射靶材的尺寸、平整度、纯度、杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒度及缺陷控制等要求高于传统材料行业;更高质量要求或特殊教育要求要求主要包括:表面进行粗糙度、电阻值、晶粒度分布均匀性、成分和结构可以均匀性、异物(氧化物)含量和尺寸、磁导率、超高建筑密度和超细晶粒等。

    铱靶-磁控溅射是一种新的物理气相沉积方法,它使用电子枪系统发射电子,并将电子聚焦在要涂覆的材料上,使溅射出的原子遵循动量转换原理,从动能较高的材料中分离出来。飞到基板上沉积一层薄膜,这种电镀材料称为溅射靶材。溅射靶材包括中国金属、合金、陶瓷进行化合物等。

    铱靶-溅射靶材基本信息

    磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方法。与蒸镀法相比,在很多方面都有明显的优势。磁控溅射作为一种已经发展起来的比较成熟的技术,在很多领域都有应用。

    铱靶-溅射靶材技术

    铱靶-溅射靶材是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子在真空中加速聚集,形成高速能量离子束轰击固体表面,与固体表面的原子交换动能。固体表面上的原子离开固体并沉积在衬底表面上。轰击产生固体是制备溅射法进行沉积形成薄膜的原料,称为溅射靶材。各类溅射薄膜材料已广泛应用于半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平板显示器、工件表面涂层等领域。

    铱靶-磁控溅射原理:在被溅射的靶材(阴极)和阳极之间加一个正交的磁场和电场,在高真空室中充入所需的惰性气体(通常是Ar气),在靶材中放置永磁体.材料进行表面可以形成250~350高斯的磁场,与高压电场作用形成一个正交电磁场。在电场的作用下,AR气体被电离成正离子和正电子,并在靶上施加一定的负高压。

    铱靶-靶材发射的电子受磁场产生影响,工作进行气体的电离概率可以增加,在阴极附近没有形成一个高密度等离子体。在洛伦兹力的作用下,Ar离子加速飞向靶表面,高速轰击靶表面,使靶上溅射的原子遵循动量转换原理,以高动能飞离靶表面活力,衬底被沉积成膜。

    铱靶-磁控溅射一般分为支流溅射和射频溅射两种。支流溅射设备原理简单,溅射金属时速度也快。射频溅射的使用更为广泛。除了溅射导电材料外,它还可以溅射非导电材料。同时还进行分析反应发生溅射,制备金属氧化物、氮化物、碳化物等复合结构材料。如果可以提高以及射频的频率,就变成了一个微波进行等离子体溅射,常用的是电子市场回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。


关键词:

扫二维码用手机看

热点动态排行榜

贵金属系列一《全球铂族金属资源储量及分布情况概述》
贵金属系列一《全球铂族金属资源储量及分布情况概述》
铂族金属(英语:Platinum-group metals,简称PGMs),又称铂系金属,包括钌(Ru)、铑(Rh)、钯(Pd)、锇(Os)、铱(Ir)、铂(Pt)六种金属元素,在元素周期表中属第5、6周期。这些金属都是稀有的、价值高昂的,具有很好的抗腐蚀性以及催化性,能够在高温、腐蚀环境下表现出很强的稳定性和耐蚀性,因此能够用于许多应用领域。
查看详情
铂族金属(英语:Platinum-group metals,简称PGMs),又称铂系金属,包括钌(Ru)、铑(Rh)、钯(Pd)、锇(Os)、铱(Ir)、铂(Pt)六种金属元素,在元素周期表中属第5、6周期。这些金属都是稀有的、价值高昂的,具有很好的抗腐蚀性以及催化性,能够在高温、腐蚀环境下表现出很强的稳定性和耐蚀性,因此能够用于许多应用领域。
一分钟为您介绍高纯钨
一分钟为您介绍高纯钨
高纯钨是制造集成电路的基本材料,材料形状可以是箔片、片材、靶材、灯丝、绝缘线、直棒、圆管、粉末、单晶等。广泛用作半导体大型的栅电路电极材料、布线材料和屏蔽金属材料级集成电路。纯度达到99.999%和99.9999%,分别记录为5N和6N纯钨。各种杂质元素的含量应在(0.1~1000)×10-12之间,某些杂质元素的含量有特殊要求,如放射性、碱金属、重金属、气体元素等。
查看详情
高纯钨是制造集成电路的基本材料,材料形状可以是箔片、片材、靶材、灯丝、绝缘线、直棒、圆管、粉末、单晶等。广泛用作半导体大型的栅电路电极材料、布线材料和屏蔽金属材料级集成电路。纯度达到99.999%和99.9999%,分别记录为5N和6N纯钨。各种杂质元素的含量应在(0.1~1000)×10-12之间,某些杂质元素的含量有特殊要求,如放射性、碱金属、重金属、气体元素等。

高纯钨的性质、用途及制备方法介绍
高纯钨的性质、用途及制备方法介绍
钨有高熔点、耐腐蚀、抗辐射等一系列优点,广泛应用于电子、医疗、钢铁冶金等行业。精矿处理得到的是Na2WO4溶液,溶液中含有一定的杂质,必须对其进行提纯才能有高纯制品。关于制造,在国外发展很快,特别是在日本,20世纪40年代就开始了高纯度的研究和生产。
查看详情
钨有高熔点、耐腐蚀、抗辐射等一系列优点,广泛应用于电子、医疗、钢铁冶金等行业。精矿处理得到的是Na2WO4溶液,溶液中含有一定的杂质,必须对其进行提纯才能有高纯制品。关于制造,在国外发展很快,特别是在日本,20世纪40年代就开始了高纯度的研究和生产。

高纯钨性质用途及其制备
高纯钨性质用途及其制备
高纯钨的熔点是所有金属元素中较高的,密度高,接近金,钨的硬度也高,像碳化钨的硬度一样接近金刚石。此外高纯钨还因其具有良好的导电性和导热性、小膨胀系数等特性,广泛应用于合金、电子、化工等领域,其中硬质合金是钨较大的消费领域,那么下面一起了解下高纯钨性质用途及其制备吧!
查看详情
高纯钨的熔点是所有金属元素中较高的,密度高,接近金,钨的硬度也高,像碳化钨的硬度一样接近金刚石。此外高纯钨还因其具有良好的导电性和导热性、小膨胀系数等特性,广泛应用于合金、电子、化工等领域,其中硬质合金是钨较大的消费领域,那么下面一起了解下高纯钨性质用途及其制备吧!

钼价格继续偏强运行,价格顶点在哪
钼价格继续偏强运行,价格顶点在哪
在2008年经济危机的影响下,钼的价格从4000元/吨左右的高位快速回落,2008年至2015年呈下降趋势。2016年以来,在供需紧平衡,钼价格逐步反弹。2020 年以后,新冠疫情肆虐海外冶炼产能停滞,大量钼精矿涌入国内,钼价格再次出现回落;随着全球疫情得到控制,经济逐步向好,钼价格再次飙升 。
查看详情
在2008年经济危机的影响下,钼的价格从4000元/吨左右的高位快速回落,2008年至2015年呈下降趋势。2016年以来,在供需紧平衡,钼价格逐步反弹。2020 年以后,新冠疫情肆虐海外冶炼产能停滞,大量钼精矿涌入国内,钼价格再次出现回落;随着全球疫情得到控制,经济逐步向好,钼价格再次飙升 。
高纯钨在集成电路领域的应用
高纯钨在集成电路领域的应用
高纯钨是纯度为99.999%(5n)和99.9999%(6n)的纯钨,电极材料、布线材料、锡其中,高纯度钨靶是集成电路制造中不可缺少的。包括靶材、箔、片、丝、丝、棒、粉末、单晶等,主要应用于集成电路工业,在我国电子信息产业快速发展、集成电路市场规模不断扩大的情况下,我国高纯钨需求旺盛,那么下面一起了解下高纯钨在集成电路领域的应用吧!
查看详情
高纯钨是纯度为99.999%(5n)和99.9999%(6n)的纯钨,电极材料、布线材料、锡其中,高纯度钨靶是集成电路制造中不可缺少的。包括靶材、箔、片、丝、丝、棒、粉末、单晶等,主要应用于集成电路工业,在我国电子信息产业快速发展、集成电路市场规模不断扩大的情况下,我国高纯钨需求旺盛,那么下面一起了解下高纯钨在集成电路领域的应用吧!

高纯钨的制备方法
高纯钨的制备方法
钨具有高熔点、耐腐蚀、抗辐射等一系列优点,广泛应用于电子、医疗、钢铁冶金等行业。钨精矿处理得到的是Na2WO4溶液,溶液中含有一定的杂质,必须对其进行提纯才能得到高纯钨。关于高纯钨的制造,在国外发展很快,特别是在日本,20世纪40年代就开始了高纯度钨的研究和生产。我国在高纯度钨的制备方面发展缓慢,目前与国外还有一定的差距,那么下面一起了解下高纯钨的制备方法吧!
查看详情
钨具有高熔点、耐腐蚀、抗辐射等一系列优点,广泛应用于电子、医疗、钢铁冶金等行业。钨精矿处理得到的是Na2WO4溶液,溶液中含有一定的杂质,必须对其进行提纯才能得到高纯钨。关于高纯钨的制造,在国外发展很快,特别是在日本,20世纪40年代就开始了高纯度钨的研究和生产。我国在高纯度钨的制备方面发展缓慢,目前与国外还有一定的差距,那么下面一起了解下高纯钨的制备方法吧!

铱靶-溅射靶材技术
铱靶-溅射靶材技术
铱靶-溅射靶材的尺寸、平整度、纯度、杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒度及缺陷控制等要求高于传统材料行业;更高质量要求或特殊教育要求要求主要包括:表面进行粗糙度、电阻值、晶粒度分布均匀性、成分和结构可以均匀性、异物(氧化物)含量和尺寸、磁导率、超高建筑密度和超细晶粒等。
查看详情
铱靶-溅射靶材的尺寸、平整度、纯度、杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒度及缺陷控制等要求高于传统材料行业;更高质量要求或特殊教育要求要求主要包括:表面进行粗糙度、电阻值、晶粒度分布均匀性、成分和结构可以均匀性、异物(氧化物)含量和尺寸、磁导率、超高建筑密度和超细晶粒等。

铱靶-靶材应用领域
铱靶-靶材应用领域
铱靶-众所周知,靶材的技术发展趋势与薄膜技术在下游应用行业的发展趋势息息相关。随着应用行业中薄膜产品或元器件的技术进步,目标技术也应随之改变。如Ic厂家。最近我们一直在致力于低阻铜布线的开发,预计未来几年内原有的铝膜将有很大的替代,因此铜靶材和所需阻隔层靶材的开发将刻不容缓。
查看详情
铱靶-众所周知,靶材的技术发展趋势与薄膜技术在下游应用行业的发展趋势息息相关。随着应用行业中薄膜产品或元器件的技术进步,目标技术也应随之改变。如Ic厂家。最近我们一直在致力于低阻铜布线的开发,预计未来几年内原有的铝膜将有很大的替代,因此铜靶材和所需阻隔层靶材的开发将刻不容缓。

二维码

扫描二维码,关注公众号,了解更多前沿技术。

在线客服

版权所有: 湖南欧泰稀有金属有限公司      湘ICP备17001881号       网站建设:中企动力长沙