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黄金在高端制造业中应用之一一电子半导体
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随着电子半导体行业设备设计的不断发展和未来需求的不断增长，需要高度精确的芯片制造过程，这就需要黄金等贵金属提供帮助。尽管这些微缩电子元件的黄金需求相对较少，但缺少黄金仍会显著影响芯片和终端设备的性能。因此黄金这种古老的贵金属，在现代半导体技术中仍然展现出其强大的活力和潜力。从连接线到抛光工艺，再到微型化的发展，金都在其中发挥着关键作用。随着半导体技术的持续进步，我们期待金在此领域中的应用将更加广泛和深入。
2023-08-29
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随着电子半导体行业设备设计的不断发展和未来需求的不断增长，需要高度精确的芯片制造过程，这就需要黄金等贵金属提供帮助。尽管这些微缩电子元件的黄金需求相对较少，但缺少黄金仍会显著影响芯片和终端设备的性能。因此黄金这种古老的贵金属，在现代半导体技术中仍然展现出其强大的活力和潜力。从连接线到抛光工艺，再到微型化的发展，金都在其中发挥着关键作用。随着半导体技术的持续进步，我们期待金在此领域中的应用将更加广泛和深入。
真空镀膜材料及技术系列五《化学气相沉积法镀膜概述》
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随着航天航空领域、核工业和半导体等领域对于半导体器件和集成电路、高场强小型的超导材料、生成晶须等产品要求的不断提高，化学气相沉积技术作为重要的材料制备和有效的材料表面改性方法，具有十分广阔的市场应用前景。
2023-07-05
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随着航天航空领域、核工业和半导体等领域对于半导体器件和集成电路、高场强小型的超导材料、生成晶须等产品要求的不断提高，化学气相沉积技术作为重要的材料制备和有效的材料表面改性方法，具有十分广阔的市场应用前景。
真空镀膜材料及技术系列四《真空离子镀膜概述》
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随着科学技术的飞速发展，机械制造业在生产中起着越来越重要的作用。而机械零件表面的腐蚀问题，对机械制造行业来说是一个重大的问题。因此，如何提高零件表面硬度、耐磨性、耐腐蚀性等性能是机械制造业的一大关键。在零件表面涂覆涂层是提高其性能最常用的方法之一，但是涂层技术有很多缺点，例如：涂层的结合力差，易脱落；涂层与基体材料之间有较大的热膨胀系数差异，涂层易开裂等。这些缺点限制了它在实际生产中的应用。目前，国内外研究和开发出了多种方法来解决上述问题。其中利用物理气相沉积法（PVD）是一种很有发展前途的技术，而真空离子镀膜技术则是其中一种新型的技术。
2023-06-14
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随着科学技术的飞速发展，机械制造业在生产中起着越来越重要的作用。而机械零件表面的腐蚀问题，对机械制造行业来说是一个重大的问题。因此，如何提高零件表面硬度、耐磨性、耐腐蚀性等性能是机械制造业的一大关键。在零件表面涂覆涂层是提高其性能最常用的方法之一，但是涂层技术有很多缺点，例如：涂层的结合力差，易脱落；涂层与基体材料之间有较大的热膨胀系数差异，涂层易开裂等。这些缺点限制了它在实际生产中的应用。目前，国内外研究和开发出了多种方法来解决上述问题。其中利用物理气相沉积法（PVD）是一种很有发展前途的技术，而真空离子镀膜技术则是其中一种新型的技术。
真空镀膜材料及技术系列三《蒸发镀膜技术概述与优质蒸镀材料的选择》
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蒸发镀膜是PVD真空镀膜方式的一种，其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。溅射镀膜和蒸发镀膜是目前最主流的两种 PVD 镀膜方式。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一。
2023-04-21
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蒸发镀膜是PVD真空镀膜方式的一种，其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。溅射镀膜和蒸发镀膜是目前最主流的两种 PVD 镀膜方式。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一。
真空镀膜材料及技术系列二《高品质溅射靶材有哪些特点？》
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真空镀膜技术主要涉及用不同的真空镀膜设备和工艺方式，将镀膜材料生成在特定的基材表面，以制备各种具有特定功能的薄膜材料。真空镀膜技术应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。薄膜材料生长于基板材料（如屏显玻璃、光学玻璃等）之上，一般由金属、非金属、合金或化合物等材料（统称镀膜材料）经过镀膜后形成，具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能，并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。由于薄膜材料就是镀膜材料转移至基板之后形成的，所以薄膜品质的好坏高低与镀膜材料的品质优劣是直接相关的关系。目前，薄膜材料制备技术主要包括：物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积（PVD）技术主要包含真空溅射镀膜、真空蒸发镀膜、真空离子镀膜三种方式。
2023-03-02
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真空镀膜技术主要涉及用不同的真空镀膜设备和工艺方式，将镀膜材料生成在特定的基材表面，以制备各种具有特定功能的薄膜材料。真空镀膜技术应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。薄膜材料生长于基板材料（如屏显玻璃、光学玻璃等）之上，一般由金属、非金属、合金或化合物等材料（统称镀膜材料）经过镀膜后形成，具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能，并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。由于薄膜材料就是镀膜材料转移至基板之后形成的，所以薄膜品质的好坏高低与镀膜材料的品质优劣是直接相关的关系。目前，薄膜材料制备技术主要包括：物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积（PVD）技术主要包含真空溅射镀膜、真空蒸发镀膜、真空离子镀膜三种方式。
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黄金在高端制造业中应用之一一电子半导体
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真空镀膜材料及技术系列五《化学气相沉积法镀膜概述》
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2023-07-05
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真空镀膜材料及技术系列四《真空离子镀膜概述》
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2023-06-14
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2023-04-21
蒸发镀膜是PVD真空镀膜方式的一种，其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。溅射镀膜和蒸发镀膜是目前最主流的两种 PVD 镀膜方式。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一。
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2023-03-02
真空镀膜技术主要涉及用不同的真空镀膜设备和工艺方式，将镀膜材料生成在特定的基材表面，以制备各种具有特定功能的薄膜材料。真空镀膜技术应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。薄膜材料生长于基板材料（如屏显玻璃、光学玻璃等）之上，一般由金属、非金属、合金或化合物等材料（统称镀膜材料）经过镀膜后形成，具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能，并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。由于薄膜材料就是镀膜材料转移至基板之后形成的，所以薄膜品质的好坏高低与镀膜材料的品质优劣是直接相关的关系。目前，薄膜材料制备技术主要包括：物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积（PVD）技术主要包含真空溅射镀膜、真空蒸发镀膜、真空离子镀膜三种方式。
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真空镀膜技术主要涉及用不同的真空镀膜设备和工艺方式，将镀膜材料生成在特定的基材表面，以制备各种具有特定功能的薄膜材料。真空镀膜技术应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。薄膜材料生长于基板材料（如屏显玻璃、光学玻璃等）之上，一般由金属、非金属、合金或化合物等材料（统称镀膜材料）经过镀膜后形成，具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能，并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。由于薄膜材料就是镀膜材料转移至基板之后形成的，所以薄膜品质的好坏高低与镀膜材料的品质优劣是直接相关的关系。目前，薄膜材料制备技术主要包括：物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积（PVD）技术主要包含真空溅射镀膜、真空蒸发镀膜、真空离子镀膜三种方式。
真空镀膜材料及技术系列一《真空镀膜材料及技术概述》
真空镀膜材料及技术系列一《真空镀膜材料及技术概述》
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2023-02-16
真空镀膜技术主要涉及用不同的真空镀膜设备和工艺方式，将镀膜材料生成在特定的基材表面，以制备各种具有特定功能的薄膜材料。真空镀膜技术应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。薄膜材料生长于基板材料（如屏显玻璃、光学玻璃等）之上，一般由金属、非金属、合金或化合物等材料（统称镀膜材料）经过镀膜后形成，具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能，并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。由于薄膜材料就是镀膜材料转移至基板之后形成的，所以薄膜品质的好坏高低与镀膜材料的品质优劣是直接相关的关系。目前，薄膜材料制备技术主要包括：物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积（PVD）技术主要包含真空溅射镀膜、真空蒸发镀膜、真空离子镀膜三种方式。
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真空镀膜技术主要涉及用不同的真空镀膜设备和工艺方式，将镀膜材料生成在特定的基材表面，以制备各种具有特定功能的薄膜材料。真空镀膜技术应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、工具改性、高档装饰用品等。薄膜材料生长于基板材料（如屏显玻璃、光学玻璃等）之上，一般由金属、非金属、合金或化合物等材料（统称镀膜材料）经过镀膜后形成，具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能，并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命、改善原有性能等。由于薄膜材料就是镀膜材料转移至基板之后形成的，所以薄膜品质的好坏高低与镀膜材料的品质优劣是直接相关的关系。目前，薄膜材料制备技术主要包括：物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积（PVD）技术主要包含真空溅射镀膜、真空蒸发镀膜、真空离子镀膜三种方式。
球形粉末的应用与制备方法
球形粉末的应用与制备方法
球形粉末的应用与制备方法
2022-10-27
球形粉末因其具有良好的流动性和高振实密度在众多领域得到越来越广泛的应用。在热喷涂领域，球形粉末因其良好的流动性，使所制得的涂层更均匀、致密，因而涂层具有更好的耐磨性；在粉末冶金领域，采用球形粉末制备的成形件密度高，烧结过程中成形件收缩均匀，因而获得的制品精度高、性能好，在注射成形、凝胶注模成形及增材制造（如3D打印技术）等先进粉末冶金成形技术应用中具有明显的优势。
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球形粉末因其具有良好的流动性和高振实密度在众多领域得到越来越广泛的应用。在热喷涂领域，球形粉末因其良好的流动性，使所制得的涂层更均匀、致密，因而涂层具有更好的耐磨性；在粉末冶金领域，采用球形粉末制备的成形件密度高，烧结过程中成形件收缩均匀，因而获得的制品精度高、性能好，在注射成形、凝胶注模成形及增材制造（如3D打印技术）等先进粉末冶金成形技术应用中具有明显的优势。
专门应对高温合金、难熔金属等材质零部件的 铣、削、钻加工刀具基体材料解决方案
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2022-04-06
 湖南欧泰稀有金属有限公司具有十多年的合金微量添加应用开发经验，专为各合金制造企业提供稀有、稀散、稀贵金属元素添加解决方案。欧泰稀材根据近年来众多用户反映的高温合金、难熔金属等材质零部件在铣、削、钻加工中遇到的难题，经过与国内行业龙头企业五年的联合研发测试，终于成功开发了专门用于添加在此类特殊硬质合金刀具基体材料的钌、铼、锇等单质高纯超细粉末，或Co-Ru、Re、Os二元、三元预合金混合粉末，也热忱欢迎各大高性能合金刀具制造企业与我司联合定向开发各类专用定制刀具材质牌号。
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 湖南欧泰稀有金属有限公司具有十多年的合金微量添加应用开发经验，专为各合金制造企业提供稀有、稀散、稀贵金属元素添加解决方案。欧泰稀材根据近年来众多用户反映的高温合金、难熔金属等材质零部件在铣、削、钻加工中遇到的难题，经过与国内行业龙头企业五年的联合研发测试，终于成功开发了专门用于添加在此类特殊硬质合金刀具基体材料的钌、铼、锇等单质高纯超细粉末，或Co-Ru、Re、Os二元、三元预合金混合粉末，也热忱欢迎各大高性能合金刀具制造企业与我司联合定向开发各类专用定制刀具材质牌号。
钨铼合金在搅拌摩擦焊中的应用
钨铼合金在搅拌摩擦焊中的应用
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2022-02-25
欧泰旗下湖南铼因铼合金材料有限公司，是一家专门研究和制造稀有高熔点金属“铼”以及“铼合金”材料的高科技企业。铼因公司对钨铼合金有多年研究经验，所生产的3个牌号搅拌头材料已批量应用于各行业领域，也可以根据客户需求定制新的合金牌号。
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欧泰旗下湖南铼因铼合金材料有限公司，是一家专门研究和制造稀有高熔点金属“铼”以及“铼合金”材料的高科技企业。铼因公司对钨铼合金有多年研究经验，所生产的3个牌号搅拌头材料已批量应用于各行业领域，也可以根据客户需求定制新的合金牌号。
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