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全球十大贵金属排行

全球十大贵金属排行

  • 分类:业界动态
  • 作者:掇拾章句
  • 来源:微信公众号
  • 发布时间:2020-12-11 11:52
  • 访问量:0

【概要描述】每种金属都有不同的价值,该价值要取决于金属的稀有性,提取难度和金属的特性。纵观历史,贵金属一直被当作货币来进行交易,而现在已成为一种投资形式,当你想到贵金属时,首先想到的应该是黄金和白银。尽管金银的价格也是非常昂贵,并已包含在十大最贵金属中。但其实还有其他比金银更有价值的金属。以下10种是2020年全球最昂贵的金属,让我们一起来看看吧。

全球十大贵金属排行

【概要描述】每种金属都有不同的价值,该价值要取决于金属的稀有性,提取难度和金属的特性。纵观历史,贵金属一直被当作货币来进行交易,而现在已成为一种投资形式,当你想到贵金属时,首先想到的应该是黄金和白银。尽管金银的价格也是非常昂贵,并已包含在十大最贵金属中。但其实还有其他比金银更有价值的金属。以下10种是2020年全球最昂贵的金属,让我们一起来看看吧。

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每种金属都有不同的价值,该价值要取决于金属的稀有性,提取难度和金属的特性。纵观历史,贵金属一直被当作货币来进行交易,而现在已成为一种投资形式,当你想到贵金属时,首先想到的应该是黄金和白银。尽管金银的价格也是非常昂贵,并已包含在十大最贵金属中。但其实还有其他比金银更有价值的金属。以下10种是2020年全球最昂贵的金属,让我们一起来看看吧。

 

10. 铟(indium)

每盎司:6.5美元 (数据:2020年4月24日)

世界上多数铟都来自日本,韩国和中国。由于其优异的导电性,所以经常被用来制造电子产品,而它另一个用途是用作飞机发动机的涂层。关于铟其实有一个有趣的事情,就是当它弯曲时,它会发出哭声。在第二次世界大战期间,它也被用来涂覆飞机发动机的轴承。

 

9. 银(Silver)

每盎司:18美元 (数据:2020年4月24日)

全球最大的白银生产国是中国,墨西哥和智利,在秘鲁也可以找到它。在所有金属中,银具有最佳的导热性和导电性以及最低的接触电阻。这意味着它是最通用的贵金属之一,其广泛的用途包括珠宝,摄影,牙科,电池,硬币和电路。此外,它具有许多技术应用。例如气味控制和防止细菌传播,而且大家都喜欢购买由银制成的珠宝,因为它比黄金便宜,却具有许多与黄金相同的特性。

 

8. 铼(Rhenium)

每盎司:80美元 (数据:2020年4月24日)

铼是一种银白色重金属。科学家在1925年发现了铼元素。因此它成为了最后被发现的稳定元素。其名称( Rhenium)取自欧洲的莱茵河,镍铼髙温合金可用于制造喷气发动机的燃烧室,涡轮叶片及排气喷嘴这些合金最多含有6%的铼。这是铼最大的实际应用,其次就是作为化工产业中的催化剂,铼比钻石更难取得,所以价格高昂。由于铼可应用在高效能喷射引擎及火箭引擎,所以在军事战略上十分重要。

 

7. 钌(Ruthenium)

每盎司:250美元 (数据:2020年4月24日)

钌是一种硬而脆,呈浅灰色的多价稀有金属元素。是铂族金属中的一员,在地壳中含量仅为十亿分之一是最稀有的金属之一。1844年科学家 Karl Ernst claus在喀山国立大学发现了该元素,随后以他的家乡Ruthenia做为此元素的拉丁名称,钌大部分用于制造耐磨电接头和厚膜电阻。其次是用于铂合金和当成化学反应催化剂。另有一项新用途则是当作极紫外光光罩的覆盖层。

 

6. 锇(Osmium)

每盎司:400美元 (数据:2020年4月24日)

锇是一种高密度的稀有金属,也是世界上密度最高的金属。世界上大部分的锇都在北美,南美和俄罗斯三个地区中开采。这种金属极难开采,因为锇的熔点非常高、高达3000度以上。锇有许多不同的用途,但最常用于硬化合金,电气触点和灯丝。

 

5.铂(Platinum)

每盎司:980美元 (数据:2020年4月24日)

铂金是一种天然形成的白色贵重金属,也是俗称的白金、纯白金、正白金或真白金,但最正确的名称绝对还是铂金。早在公元前700年铂金就在人类文明史上闪出耀眼的光芒,在人类使用铂金的2000多年历史中,一直被认为是最高贵的金属之一。铂金天然纯净且珍贵稀有,最重要的是它永远都不会褪色或是变色,光泽会一如既往的美丽动人。虽然铂金成本高,但它能一直保持最佳光泽,也因为其纯度让它成为天然的低敏金属,很适合敏感性肌肤的人佩戴。

 

4. 铱(Iridium)

每盎司:1510美元 (数据:2020年4月24日)

这种金属是铂家族的另一种元素,也是最致密的元素和最耐腐蚀的金属之一。并且熔点很高,由于「铱」有许多特性,因此被许多行业使用,常用于电子,汽车和医药。

 

3. 金(Gold)

每盎司:1710美元 (数据:2020年4月24日)

黄金是一种贵重金属,是人类最早发现和开发利用的金属之一。它是制作首饰和钱币的重要原料,又是国家的重要储备物资,素以"金属之王"著称。不仅被视为美好和富有的象征而且还以其特有的价值造福于人类的生活,随着科学技术和现代工业的发展。黄金在宇宙航行、医学、电子学和其他工业部门日益发挥着重要的作用。黄金的用途越来越广,消耗量也越来越大,因而引起世界各国对黄金的格外关切和浓厚的兴趣。

 

2. 钯(Palladium)

每盎司:2800美元 (数据:2020年4月24日)

在2001年至2018年之间,其实钯金的价值低于黄金。不过在2019年2月开始,钯的价格超过了黄金是自2001年以来首次超过黄金。这种贵金属的稀有度约为黄金的30倍。超过80%的钯用于生产汽车零件钯是汽车零件「催化器」的关键元素,钯亦可用于电子产业、珠宝业及牙科材料。由于钯的价格近年急升,全球涉及催化器的窃案急增,钯近年一直供不应求,去年的钯产量已是连续第8年低于全球需求。即使钯的价格持续高企,但钯作为铂金和镍提炼过程中的副产品,生产商要增加产量的灵活性相对较低。南非占全球钯供应量的40%,该国指包括钯等铂系元素于2019年11月的产量,较前年同期下跌13.5%,钯的短缺情况料将持续。另外,全球加紧管制燃油车,欧洲柴油排放丑闻等因素,导致汽车制造商对钯的需求急增。

 

1.铑(Rhodium)

每盎司:12100美元 (数据:2020年4月24日)

铑在过去4年里上涨了12倍,远胜于所有主要商品。原因是排放法规趋严、汽车行业需求不断增长,正是因为价格昂贵,催化剂生产商才放弃铹、转用铂和钯制造,皆是用于触媒转化器之催化剂,而铑跟钯一样,都是铂和镍开采过程的副产品,不过市场小得多。另外,铑的投资比其他贵金属困难得多,因为它不在交易所交易,大多数都在供应商和工业用户之间进行,铑价上涨则是南非生产商的好消息。该国占全球80%以上的产量,但南非电力不稳。工人长时罢工,也意味着供需风险不小。

 

 

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亚太6D通信卫星成功发射!
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2020年7月9日20时11分,亚太6D通信卫星在西昌卫星发射中心由长征三号乙运载火箭成功发射。亚太6D通信卫星是一颗地球静止轨道高通量宽带通信卫星,由航天科技集团五院(以下简称五院)通信卫星事业部抓总研制,采用我国自主研发的新一代东方红四号增强型卫星公用平台(DFH-4E平台)建造,发射重量约5550公斤,在轨服务寿命15年。截至目前,五院已研制发射304颗航天器。
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全球十大贵金属排行
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高纯金属材料的应用和发展
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高纯钨  纯度达到99.999%(5N)和99.9999%(6N)的纯钨材料,称之为高纯钨。高纯钨的总杂质元素含量应被控制在1ppm~10ppm(10-6~10-5)之间,对于某些特别杂质元素的含量,如放射性元素、碱金属元素、重金属元素和气体元素等还分别有特殊的要求。由于放射性元素U和Th具有a射线,在记忆回路中可引起“软误差”而影响电路的质量和性能,所以在高纯钨的杂质元素中,要求U和Th的含量应特别低,一般来说应低至1ppb(即1×10-9)以下,最低达到0.1ppb(1×10-10)。另外,高纯钨对于碱金属元素(K、Na、Li)的含量也分别有严格要求。高纯钨主要被制备成纯金属靶材或合金靶材,通过磁控溅射的方式得到符合要求的功能薄膜。由于高纯钨(5N或6N)具有对电子迁移的高电阻、高温稳定性以及能形成稳定的硅化物,在电子工业中以薄膜形式用作栅极、连接和障碍金属。高纯钨及钨硅、钨钛溅射靶材常被施以薄膜形式用于超大规模集成电路作为电阻层、扩散阻挡层、过渡层等以及在金属氧化物半导体型晶体管中作为门材料及连接材料等。现代电子、半导体、光伏产业的飞速发展,对材料特别是金属材料的纯度要求近乎苛刻完美。高纯钨由于其极高的性能表现而在其中扮演着十分重要的角色。高纯钼  纯度达到99.99%(4N)和99.999%(5N)的纯钼材料,称之为高纯钼。高纯钼的总杂质元素含量相应被控制在100ppm~10ppm(10-4~10-5)之间。和高纯钨一样,对于高纯钼中某些特别杂质元素的含量,如放射性元素、碱金属元素、重金属元素和气体元素等也分别有特殊的要求。由于高纯钼主要应用于靶材领域,所以一般要求U+Th和碱金属的含量十分低。由于高纯钼材料的实验开发较晚,工业化制造更是无从说起,其用途在几年前还往往被工业级或粉冶级的普通钼材料代替。然而,近年来半导体产业的突飞猛进以及高精密电子产品快速升级换代,大大促进了对基础材料更高更新的要求。和高纯钨一样,高纯钼主要被制备成纯金属靶材或合金靶材,通过磁控溅射的方式得到符合要求的功能薄膜。溅射的工作原理是用高速粒子轰击靶材,使靶材表面的金属原子脱离靶材,以薄膜的形式沉积到玻璃或其他基板上,最终形成复杂的配线结构。相对于普通钼靶而言,高纯钼溅射靶材由于其杂质含量极少、化学纯度很高,从而可形成更高品质的薄膜材料,现已广泛用于制造薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD);半导体工业大规模集成电路的配线材料;太阳能工业新型薄膜系太阳能电池;以及其它高新材料领域。半导体等大型集成电路对金属材料的纯度要求极高,高纯钼由于其极优的性能表现而在现代电子、半导体、光伏产业中成为首选的高端优质材料。溅射靶材Sputter磁控溅镀原理  Sputter在辞典中意思为:(植物)溅散。此之所谓溅镀乃指物体以离子撞击时,被溅射飞散出。因被溅射飞散的物体附著于目标基板上而制成薄膜。在日光灯的插座附近常见的变黑现象,即为身边最赏见之例,此乃因日光灯的电极被溅射出而附著于周围所形成。溅镀现象,自19世纪被发现以来,就不受欢迎,特别在放电管领域中尤当防止。近年来被引用于薄膜制作技术效效佳,将成为可用之物。薄膜制作的应用研究,当初主要为BellLab.及WesternElectric公司,于1963年制成全长10m左右的连续溅镀装置。1966年由IBM公司发表高周波溅镀技术,使得绝缘物之薄膜亦可制作。后经种种研究至今已达“不管基板的材料为何,皆可被覆盖任何材质之薄膜”目的境地。而若要制作一薄膜,至少需要有装置薄膜的基板及保持真空状况的道具(内部机构)。这种道具即为制作一空间,并使用真空泵将其内气体抽出的必要。Sputter溅镀定义:在一相对稳定真空状态下,阴阳极间产生辉光放电,极间气体分子被离子化而产生带电电荷,其中正离子受阴极之负电位加速运动而撞击阴极上之靶材,将其原子等粒子溅出,此溅出之原子则沉积于阳极之基板上而形成薄膜,此物理现象即称溅镀。
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高纯钨  纯度达到99.999%(5N)和99.9999%(6N)的纯钨材料,称之为高纯钨。高纯钨的总杂质元素含量应被控制在1ppm~10ppm(10-6~10-5)之间,对于某些特别杂质元素的含量,如放射性元素、碱金属元素、重金属元素和气体元素等还分别有特殊的要求。由于放射性元素U和Th具有a射线,在记忆回路中可引起“软误差”而影响电路的质量和性能,所以在高纯钨的杂质元素中,要求U和Th的含量应特别低,一般来说应低至1ppb(即1×10-9)以下,最低达到0.1ppb(1×10-10)。另外,高纯钨对于碱金属元素(K、Na、Li)的含量也分别有严格要求。高纯钨主要被制备成纯金属靶材或合金靶材,通过磁控溅射的方式得到符合要求的功能薄膜。由于高纯钨(5N或6N)具有对电子迁移的高电阻、高温稳定性以及能形成稳定的硅化物,在电子工业中以薄膜形式用作栅极、连接和障碍金属。高纯钨及钨硅、钨钛溅射靶材常被施以薄膜形式用于超大规模集成电路作为电阻层、扩散阻挡层、过渡层等以及在金属氧化物半导体型晶体管中作为门材料及连接材料等。现代电子、半导体、光伏产业的飞速发展,对材料特别是金属材料的纯度要求近乎苛刻完美。高纯钨由于其极高的性能表现而在其中扮演着十分重要的角色。高纯钼  纯度达到99.99%(4N)和99.999%(5N)的纯钼材料,称之为高纯钼。高纯钼的总杂质元素含量相应被控制在100ppm~10ppm(10-4~10-5)之间。和高纯钨一样,对于高纯钼中某些特别杂质元素的含量,如放射性元素、碱金属元素、重金属元素和气体元素等也分别有特殊的要求。由于高纯钼主要应用于靶材领域,所以一般要求U+Th和碱金属的含量十分低。由于高纯钼材料的实验开发较晚,工业化制造更是无从说起,其用途在几年前还往往被工业级或粉冶级的普通钼材料代替。然而,近年来半导体产业的突飞猛进以及高精密电子产品快速升级换代,大大促进了对基础材料更高更新的要求。和高纯钨一样,高纯钼主要被制备成纯金属靶材或合金靶材,通过磁控溅射的方式得到符合要求的功能薄膜。溅射的工作原理是用高速粒子轰击靶材,使靶材表面的金属原子脱离靶材,以薄膜的形式沉积到玻璃或其他基板上,最终形成复杂的配线结构。相对于普通钼靶而言,高纯钼溅射靶材由于其杂质含量极少、化学纯度很高,从而可形成更高品质的薄膜材料,现已广泛用于制造薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD);半导体工业大规模集成电路的配线材料;太阳能工业新型薄膜系太阳能电池;以及其它高新材料领域。半导体等大型集成电路对金属材料的纯度要求极高,高纯钼由于其极优的性能表现而在现代电子、半导体、光伏产业中成为首选的高端优质材料。溅射靶材Sputter磁控溅镀原理  Sputter在辞典中意思为:(植物)溅散。此之所谓溅镀乃指物体以离子撞击时,被溅射飞散出。因被溅射飞散的物体附著于目标基板上而制成薄膜。在日光灯的插座附近常见的变黑现象,即为身边最赏见之例,此乃因日光灯的电极被溅射出而附著于周围所形成。溅镀现象,自19世纪被发现以来,就不受欢迎,特别在放电管领域中尤当防止。近年来被引用于薄膜制作技术效效佳,将成为可用之物。薄膜制作的应用研究,当初主要为BellLab.及WesternElectric公司,于1963年制成全长10m左右的连续溅镀装置。1966年由IBM公司发表高周波溅镀技术,使得绝缘物之薄膜亦可制作。后经种种研究至今已达“不管基板的材料为何,皆可被覆盖任何材质之薄膜”目的境地。而若要制作一薄膜,至少需要有装置薄膜的基板及保持真空状况的道具(内部机构)。这种道具即为制作一空间,并使用真空泵将其内气体抽出的必要。Sputter溅镀定义:在一相对稳定真空状态下,阴阳极间产生辉光放电,极间气体分子被离子化而产生带电电荷,其中正离子受阴极之负电位加速运动而撞击阴极上之靶材,将其原子等粒子溅出,此溅出之原子则沉积于阳极之基板上而形成薄膜,此物理现象即称溅镀。
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